TiO2功能薄膜的制备及影响其光催化活性的因素.pdfVIP

文章编号：100l一973l(2002)03—0246一04 TiO。功能薄膜的制备及影响其光催化活-眭的因素’ 陈龙武，盛闻超，甘礼华 (同济大学化学系，上海200092) 摘要：近些年来．Tloz功能薄膜以其卓越的性能．尤其是优 异的先催化性能引起研究人员的广泛关注。本文根括国内外近 期Ti()z功能薄膜的研究现状．对化学气相沉积法、水解一沉淀 法、液相沉积法、溶胶一凝胶法、原子层沉积法、溅射法、激光辅助 子体对该膜进行表面处理制得不同表面性质的Ti()。纳米粒子 分子束沉积法等化学和物理制备方法进行评速．并比较详细地 膜。这种方法有比较高的设备要求．并且制得的膜微观表面起 探讨了表面羟基舍量、膜的厚度扣孔径、结晶形态、基片种类、掺 杂和光强度等因素对Ti()：薄膜光催化性能的影响。 CVD． 关键词：T1(X功能薄膜；光催化；制备 中图分类号：()643 文献标识码：A 体．通过cVD法制膜。该沉积过程在常压下即可发生”o-例如 1 引 言 将N：争气通过置于。n℃的加热鼓泡器中的四异丙醇钛前驱 体+然后导人60℃的冷凝回流装置中以获得饱和四异丙醇钛蒸 T·()z的许多不同寻常的特性．使其具有广泛的应用前汽．使其与N。混合．并通人直径4cm的玻璃反应器中．与另行 景”】．如用作微电子气体传感器．电致发光器件以及电极材料 等。而近年来．Ti()z忧照的光催化性能弓l起了人们广泛的研究 兴趣。相对而言．Ti(b粉体具有比较高的催化活性．因此人们 法具有沉积速率高、沉积温度低、薄膜成分与厚度易控、均匀性 研究得更多的是Ti()。粉末的悬浮体系以及将Ti()z载于一定 与重现性好等特点，适用于制备介电膜及其它用途的薄膜o】。 载体的反应系统”]．但是，这两种体系都有其各自的实际应用困 难。Ti(^粉末易聚集且反应后难以回收再利用，而将Ti0。粉 M()C、D)还可进一步降低反应压力‘”]。J唧SuTlgLee[”3等采用 体载于其它物质之上势必将减少其表面积进而降低其反应活 cyclo— 性，这已经成为以Ti()：为基础的光催化方法难以商业化的主 tronRes。nancePlasrr卜Assisfed 要原因口]。而Ti()。薄膜则可以克服这些缺点并延伸其工业用 一般的M()cvD反应装置外，还应配有磁控管．由碰控管产生的 途¨]．具有良好的应用前景，应用Ti(k光催化薄膜降解气相和 微波被导入放电室，当电子在磁场中的轨道频率等于微波频率时 液相有机污染物已收到很好的效果．schottGlas哪将Ti()2涂覆 就会产生电子回旋共振等离子体，将其引入反应室进行反应制 在玻璃表面．可以很容易地去除黏附在玻璃上的污染物．使其具 膜．此种方法由于具有更高的电离效率和反应前体的分解率．因 有自洁净的功能。除此以外．陈希慧Ⅲ等利用Ti0：膜进行 而可在更低的反应温度下制各出高品质的薄膜．在制各介电材料 cH。和oz的光催化氧化反应，成功地获得了甲醇．又开辟了 T1()。“绿色”反应的新途径。 空度也会限制均相气相反应的发生。 2制