使用PEM监控制备光致亲水性TiO2薄膜的研究.pdfVIP

第27卷第5期 真空科学与技术学报 2 聊年9、10月 CKLNESE OFVACUUMSCIEN mANDTECHNOLOGY JOU刚AL 413 舻‰％∞啦麓 毒技术交流§ 虢日五盼酗嘶9 五9捕 段永利1+ 许生2巴德纯1高文渡2范垂祯2 L1东北大学机械工程与自动化学院沈阳110004；2深圳豪戚真卒光电子股份有限公司辣圳518057 Plasma·-Emission-MonitorControlledGrowthof Light Induced Film HydrophilicTi02 Duan Wetlh02andFanChuizhen2 Dechunl，Gao Yo,珥i“，Xush谚，Ba 、2 ShenzheaHimc ， Vacuam‰扑腑加础凸，倒．，ShenzAen，518057，蕊irta Abstractfilms suites conholled emission Ti02 wcrP,grown by byplasrna On甜ass reac6”mid-frequencymagnelronsputtering．and monitor PEM ．ThefilmsWCFtqdiffraction XRD ，surface ofsubstrate characterizedwithX-my profiler，and the studiedThe films and d induced ofthe temperatureset-lmintpl砌iIlt鲫蜥onultraviolet UVjlight Ti02‰was Ti02 hydmpinXicity sllow excellent contact omhourReversibletransition hydmphilic畸，withwater a叫elessthanlotafterirradiationofuV蛐for ofhydropho— to W：[L6observedand wellalternationofUV anddark bicity co．oiled super-hydropIlilicity by b出irradiationstorage thin KeywordsTi02 films，Hyophilicity，PEM，Reactivesputtering 摘要本文采用中频反应磁控溅射方法在玻璃表面制备了晴啦薄膜，为使反应溅射的工作点能够稳定在“过渡区“，得 到较高的薄膜沉积速率，使用了等离子体发射光谱监控法 PlasmaEmission 膜厚，用X射线衍射 XRD 和透射率光谱扫描等测试方法对薄膜的特性进行表征。对制得的滓膜进行了光照试验，研究了温 度、PEM工作点等不同工芝条件对薄膜亲水性的影响。薄膜经过1h左右的紫外光照射，得到了很好的亲水性效果，其表面的 水接触角达到r小于1。的水平。将薄膜经过光照后再置于黑暗中一段时问，如此循环了5次，仍具有很好的光致亲水效果，证 明此过程是可以循环重复的。 关键词Ti02薄膜亲水性PEM反应溅射 中图分类号：0484 文献标识码：A 文章编号：1672-7126 2007 05-413，05 7rim薄膜在可见光范围内对光线具有很高的折因为光催化过程而被去除，因而恢复原始的亲水性。 射率、低的吸收率以及良好的化学稳定性和机械性 2 另一种较新的理论认为，T峨薄膜表面的光 能、较高的介电常数，是应用最广泛的膜层材料之 致亲水性是紫外光照射薄膜表面后造成表面结构发 一H一。1997年，R．Wang等L2J发现，T峨在紫外光照 生变化引起的，即7n02受激发产生电子一空穴对并 射下会显示m很强的亲水特性，人们开始逐渐认识 向表面迁移，电子与‘ri4+反应生成．rj3+，而空穴则与 到这一效应所能带来的应用价值，并对其展开大量 表面的桥位氧原子反应生产氧空位，空气中的水分 的研究工作。 子吸附在氧空位中形成具有极性的羟基 OH一 ，羟 对于7n02薄膜的光致亲水机理，学术界存在不基可以进一步对水分子进行物理吸附，并在Ti3+周 同的说法，比较主要的有两种： 围形成高度亲水微区，而表面其余区域仍保持疏水 1，一种较早的理沦认为，Tj02薄膜表面在初始 性，这样就在T峨表面形成均匀分布的纳米尺寸的 状态下是亲水的，但它极易吸附环境中的有机物变 亲水区，在宏观上表现出亲水性[3-43。 成疏水表面。在紫外光激发下，*02表面的有机物 尽管存在上述两种理论，但Tj魄薄膜的光致亲 收稿日期：2006—11。06 *联系人：Tel： 0755 86149 107，E-rrIall：donl010@163．ccan 万方数据 414 真空科学与技术学报 第