光栅光调制器阵列翘曲问题分析.pdfVIP

第5卷第4期 纳米技术与精密工程 Vd．5No．4 2007年12月 andere凼on Dec．20cr7 NanotechnologyEngineering 光栅光调制器阵列翘曲问题分析 张智海1’2，一，黄尚廉2，张洁2，孙吉勇2，付红桥2 (1．重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室，重庆400044； 2．重庆大学微系统研究中心，重庆400044；3．重庆市微光机电工程技术研究中心，重庆400044) 摘要：提出了一种新颖的面向大屏幕高清晰度显示的光栅光调制器(GⅨ)阵列．它利用光衍射原理对入射光进 行调制．GLM是在硅片上分层构造的器件，采用以铝膜工艺为主的表面微加工工艺．在研制过程中器件翘曲成为制 约器件性能的关键问题．从残余应力分析入手，分析了产生残余应力的原理，并提出使用单金属膜并控制工艺参数 的改进方案．另外，采用“减薄梁”的工艺，使大部分应力释放在刚性较弱的支撑梁上．加工结果印证了理论分析和 仿真，最终器件获得了较为平坦的表面． 关键词：光栅光调制器；大屏幕高清晰度显示；衍射；翘曲；残余应力 中图分类号：吲405 文献标志码：A 文章编号：1672—6030(2007)04-0343—04 of Modulator Light Array BucklingGrating ZHANG Zhi—hail，2”，HUANG Jid，SUN Shang—lian2，ZHANGji—yong，FUHong-qia02 of and of ofEducation， LaboratoryOptoelectmnicTechnologySystemMinistry (1．Key 400044，China； ChongqingUnivemity，Chongqing Research 400044，China； 2．MierosystemCenter，ChongqingUniversity，Chongqing ResearchCenterforMEMS of 3．E姆ne谢119 TechnologiesChoning，Chongqing400044，China) Abstract：Anovel for screenand definitionwas gratinglightmodulator(GLM)arraylarge high displaypre- device onthe sub— sentedinthis modulatesdiffraction．GLMisatwo—layer fabricatedsilicon paper．It lightby of strate．I