制备工艺对WO3TiO2薄膜可见光催化活性的影响.pdfVIP

第 卷第 期 中国有色金属学报 年 月 ! $ ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! 0BD(!KBN$! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! OPQ( $)*+)%,*-*./01,23/45/,4*11/0-6*723- ! !文章编号 ! !# $%$ !%% ’ 制备工艺对 # 薄膜可见光催化活性的影响! ! $% # ! ! ! ! 张 琦 !李新军 !李芳柏 !王良焱 !梁园园 ! ! 中国科学院 广州能源研究所#广州 $ !( ’!) 广东省生态环境与土壤研究所#广州 ( ’!$’ !摘 要采用磁控溅射技术在浸渍提拉法制得的 薄膜上溅射 层#通过不同制备工艺控制 在 *+, -, - *+, ! . 晶体中的分布% 透射光谱表明#在可见光范围内溅射有 层的薄膜有不同程度的吸收光谱红移现象% /01023 -, . 并理论计算出带隙能#溅射 -, 层使薄膜的带隙能变小%甲基橙光催化降解实验表明#以焙烧 溅射 热处理 ’ . 工艺制备的 ’ 薄膜可见光活性最佳# 从薄膜表面到内层的浓度递减分布%讨论了不同制备工艺引起 4 -, *+, - . 的- 在薄膜内部的不同分布对光催化活性的影响% !关键词薄膜$可见光催化活性$二氧化钛$磁控溅射$氧化钨 !中图分类号 $ !文献标识码 ,$#. 5’ 6 *+, 光催化剂薄膜在自洁(防雾功能方面具 钾洗液(蒸馏水浸泡#洗涤#烘干%在硅溶胶中浸 !! 有广阔的应用前景#但其实际应用场合大多在太阳 渍提拉玻璃片 次! ’#在电热干燥箱中于 ! 99 G 光和室内弱光下#而锐钛矿型 *+, 的光吸收阈值 烘 #置于马弗炉中以 ’ 程序