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维普资讯
第32卷第 1期 光 子 学 报 Vo1.32No.1
2003年 1月 ACTA PHOTONICA SINICA January2003
MMI功分器结构参量的优化设计
黄耐容 王 谦 何赛灵
(1浙江大学物理系,杭州 310027)
(2浙江大学现代光学仪器国家重点实验室光及电磁波研究中心,杭州 310027)
摘 要 基于精确模式传输分析方法 (MPA),提出等效宽度的概念,在此基础上重新修正了自成
像理论 中有关多模干涉(MMI)功分器的输入(出)波导位置和干涉区长度.并且以1x4,4x4耦合
器为例,对各个结构参量进行扫描,证明修正后的耦合器结构使耦合器分光均匀性提高,附加损耗
减小,具有实际应用价值.
关键词 耦合器;功分器 ;多模干涉
中图分类号 TN253 文献标识码 A
零,入射场和出射场在输入波导和输出波导的边界
0 引言
上也为零,所有传播模式在横向边界上光强为零;
耦合器是现代光通信系统中必不可少的器件之 2)在 MMI本征模式中假设:k 《.j}。n( + =
一
. 目前市场上大多数是熔融拉锥而成的光纤型耦 n :),式中k是横向波矢,JB是模式m的传播常
合器,其基本单元是 1x2耦合器.采用此种结构,若 量,k。是真空中波矢,n是 MMI的介质折射率 (在
要形成 1xN(N2)耦合器就必须级连 2 一1个基 二维等效中,对应等效折射率).在 以上两个近似处
本单元.这样构成的耦合器不但尺寸大,而且分光性 理的基础上,可以方便的得到第 阶模式的传播常
能受到个基本单元的影响.为了适合小型化发展的 量为
趋势,应用多模波导干涉效应 (MMI)制成的 1xN, JB k0n。一(+1)-rrZo/4n。 (1)
N×N耦合器就越来越引起人们的研究兴趣.它与 式中n为波导芯层折射率, 为多模区域的宽度,
定向耦合器 、、y型分支波导耦合器相比有着结构 A 为波长.成像位置近似为
简单紧凑,工艺容差大,插入损耗小、均匀性好、对偏 LMMI=3pL /q~,-4pn。We/qAo (2)
振和波长敏感性低等优点 ¨J.此外,为了适应集成 式中 为最低两阶导模 的拍长定义为 rr/( 一
化发展的要求,达到有源器件和无源器件集成在一 JB),P表示可能的器件长度倍数,q为成像个数,P、q
起的目标,硅材料的耦合器也是人们研究的重点.本 互质.如图1所示的NxN耦合器的输入(输出)波
文就重点研究二氧化硅材料的MMI耦合器.对MMI 导的位置为
耦合器设计常用 自成像理论 J,但是当输入 (输 rxl=(2i一1)W/
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