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2015-09-08 发布于重庆
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无掩模光刻技术的前景.pdf

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无掩模光刻技术的前景

电子工业专用设备 !#$%’() *+, !-’.),+($. /,+0#.)1 23(#*3.)#,$(4 趋势与展望无掩模光刻技术的前景 1 2 翁寿松，缪彩琴 ! #!$%%! # #!%$# （无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡；无锡机电高等职业技术学校江苏无锡）摘要：介绍了无掩模光刻技术的现状、存在的问题和前景展望；说明了无掩模光刻技术的最大优点即是降低掩模成本；同时还介绍了电子束光刻技术及其改进。关键词：无掩模光刻；电子束光刻；掩模版 J+:#I’ L )$)#’Q!#*R$ $: 中图分类号：文献标识码：文章编号： 67’ /,+1%’.) *+, )7’ 2318-’11 9$)7+4,3%7: 6’.7(+-+4: ! S+, K65M$T517 U V?LW C34$X41 I SM/4 -M5 J. E.F02514FU J-YU SM/4 !) U C6413 !I SM/4 V.F6314F3E$E.F02514F Z476.2 5F304513E J.F615E579 KF655EU （； SM/4 !)!’U C6413 ） ;1),3.)= ?1 064T 838.2U 06. 82.T.10U 06. ./4T0417 825[E.; 31\ 06. 825T8.F0 ]52 06. ;3T^E.TT E4065723869 0.F6 15E579 32. 41025\MF.\I J6. 3\_31037. ]52 06. ;3T^E.TT E4065723869 0.F615E579 [. 2.\MF. 06. ;3T^ F5T0TI J6. .E.F0251 [.3; E4065723869 31\ 40T 4;825_.;.10 32. 41025\MF.\ 3ET5I ’:?+,1= V3T^E.TT E4065723869 0.F615E579‘ E.F0251 [.3; E4065723809‘ V3T^ +,- +./0 ,.1.230451 作为下一代光刻技术（：业已全面地从深亚微米步入纳米尺度。尤其在进入 -4065723869 ，即小于:! 1; 工艺节点的光刻技术）纳米尺度之后，光刻掩模技术已成为各种光刻技术 =- 的候选技术有：极紫外线光刻技术（）、纳米方法中一项可决定其应用前景的关键技术，同时， +?- @ @A- ! 压印光刻技术（）、射线光刻技术（）掩模成本在整个光刻成本中可占份额也不断攀升， @ B@- ! 1; 接近式射线光刻技术（）准直等离子光刻表给出光刻尺寸在以下各种光刻掩模成 CB- D- E.F0251 D03; KCL-B- KF30E.2417 317ME3