太阳能电池生产线中新型等离子体刻蚀机刻蚀工艺探讨.pdfVIP

- 电 子 工 业 毫 用 设 备 光刻与刻蚀 太阳能电池生产线中新型等离子 体刻蚀机刻蚀工艺探讨 陈特超 ，马度 ·巴布2李健志 ，毛朝斌 f1．中国电子科技集 团公司第 四十八研究所 ．湖南 长沙 410111 2．UAEFujairahIshan能源公司，印度1 摘 要：介绍了一种新型等离子体刻蚀机 的使用条件，通过对各种参数变化的组合实验，得到了 最佳工艺数据。fi,4用该刻蚀机生产的电池片刻蚀 效果好 ，刻蚀后经检测，电池片漏电流小 ，并联 电 阻大，提 高了电池片的综合性能指标。 关键词 ：等离子体 ，刻蚀 ，工艺，实验 中图分类号 ：TM910．5 文献标识码 ：A 文章编号：1004—4507 2011 06．0005．03 SolarCellProduction Linein theNew Technologyof PlasmaEtchingM achine CHEN Techao ，M adhuBabu ，LIJianzhi ，MAO Chaobin 1．The48thResearchInstituteofCETC，Changsha410111； 2．MicrosolInternationalLLFZE，Indian Abstract：Thisarticleintroducesanew typeofplasmaetchingmachine’Sconditionsofuse，througha combinationofvariousexperimentalparametersithadobtaintheoptimum data．Makeuseoftheetch— ingmachineproductionofbatteryslicecorrosionmomenthasgoodeffect，etchedbytheexperiment， battery sliceleakagecurrentareless，shuntresistancearehighanditimprovethegeneralperformance ofthebattery slice． Keywords：Plasma；Etching；Process；Experiment 当石油、煤炭、天燃气等不可再生能源频频告 电池制造技术不断改进 以及新的光 ．电转换装置 急，能源 问题 日益成为制约社会经济发展的瓶颈 的发明。可 以预见，太阳能电池将是太阳辐射能利 时，越来越多的国家开始实行 “阳光计划”，开发太 用的一种比较切实可行的方法，可为人类未来大 阳能资源，寻求经济发展的新动力。各国对环境的 规模地利用太阳能开辟广阔的前景…。晶体硅太 保护和对再生清洁能源的巨大需求，促使太阳能 阳能电池工艺中的等离子体刻蚀是将硅片周边的 收稿 日期 ：2011—05—24 扩散层去除，使硅片两面形成PN结。硅片周边的 效果。最后待 电池片完成全部工艺生产工序后进 扩散层去除干净与否，可由太阳能电池的漏 电流 行综合参数测试，检测并联 电阻的人小 艾／分们情 和并联电阻来表征。等离子体刻蚀技术 已成为实 况，根据合格要求判定刻蚀效果。 现此工艺的首选 。在现有设备的基础上优化工艺， 表 1 不同功 率参数 的实验效果 提升光伏 电池性能己成为一种新的精细技术 。 送气量 工艺压 工艺时 射频功 良 。。 序号 CFJO JJ乙P／雎 2 m／L。min一 南。” ‘十。?I， 漏电流 一 a ． 1 设备及条件 320／40 40 20 650 O．2～0．9 3204／0 40 20 700 0．1～0．3 本工艺研究是在阿联酋 Fuiairah酋长 国Mi． 320／40 40 2O 750 0 l～0．2 crosol公司进行，设备为中国电子科技集 团公司 3204／0 40 20 800 0．1～0．4 第 四十八研究所研制的新一代等离子体刻蚀机， 3204／0 40 20 850 0．2～0．8 该设备采用 ICP技术 ，配备 国际领先水平 的RF 表 2 不同工 艺气体 用量 的实验 效果 电源及干式真空泵，大大提高了设备的可靠性。与 国内现在普遍使用的第一代刻蚀机相比，它的产 艺时 射频功 籼 流 ／m ／W ， ． f~] in ~ RF ／mA 能大，故障率低，使用、维护费用低，更适合于大规 1 2 3 模工艺生产使用 。设备原理 图如图1_2l。 1 2404／0 20 750 0．2～0．9 2 280／40 2O 75O 0．1～0．4 统 3 3204／0 20 750 0．1～O2 4 3604／0 20 750 0．1～0