甲基磺酸盐快速镀镍工艺参数对镀层内应力的影响.pdfVIP

甲基磺酸盐快速镀镍工艺参数对镀层内应力的影响.pdf

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石油、天然气工业

册 Vo1:47No.8Aug.2014 , 甲基磺酸盐快速镀镍工艺参数对 镀层 内应力的影响 林西华 。费敬银 。骆立立。王少兰 (西北工业大学理学院,陕西 西安 710129) [摘 要] 为了探索出能在较低温度、较宽温度范围内适合工业化生产的快速电镀镍工艺,以甲基磺酸盐溶液为 基础,研究了添加剂种类、用量、施镀条件等对镀层 内应力、形貌等影响的规律。结果表明:添加剂和施镀条件对镀 层内应力和形貌有较大的影响,当添加剂糖精钠、l,4.丁炔二醇、对甲苯磺酰胺、十二烷基硫酸钠用量分别为2.o0, 0.40,0.50,0.05g/L,镀液温度50oC,pH值3~4,电流密度 lOA/dm 时,镀层 内应力最小、质量最优 ;与传统的镀 镍方法相比,本工艺具有高效、节能等突出特点。 [关键词] 快速 电镀镍;甲基磺酸盐;内应力;添加剂 [中图分类号]TQ153.12 [文献标识码]A [文章编号]1001—1560(2014)08—0010—05 0 前 占 二烷基硫酸钠)、用量及施镀条件 (镀液温度、pH值 、电 流密度)对镀层 内应力影响的规律,为探索能够在较低 电镀镍层广泛用作耐蚀层、防护装饰层、耐磨层 温度、较宽温度范围内适合工业化生产的快速 电镀镍 等,常因内应力过大而出现龟裂或起皮而影响使用;通 工艺提供参考。 常采用优化工艺参数(如升高镀液温度)和改变镀液组 分 (如选择氨基磺酸盐型镀镍液代替硫酸盐型、氯化物 1 试 验 型)来降低镀层应力 ¨ j。通过调控含有逆向脉冲的 电源波形参数,可显著改变镍镀层的内应力,是降低镀 1.1 基材前处理 层应力的新途径 ;但输出参数任意可调的大功率脉 基材为紫铜片,尺寸为0.1mm×20.0mm×30.0 冲电源 尚未取得突破性进展 。故完善镀液的组成或选 mm;先用无水 乙醇擦洗 除油,再碱性 除油 (25g/L 用性能优异的去应力添加剂仍为 目前降低镀层应力的 NaOH,25 g/LNa2CO3,50g/LNa3PO4 ·12H20;4~6V 主要方法。 直流电压,室温,1min),用蒸馏水冲洗干净后,用 l0% 以甲基磺酸盐为基础的镀液沉积速度快、镀层应 HSO活化 30s,蒸馏水冲洗干净 ,烘干备用。 力小、生产能耗低 J。过去 由于作为 电镀生产主要 1.2 电镀镍工艺 原料的甲基磺酸价格 昂贵,镀液制备及生产成本很高, 230.00g/L碱式碳酸镍,45.00 L氯化镍,400.00 此类体系并未得到广泛的推广应用。近年来,随着现 g/L甲基磺酸,25.o0g/L硼酸,0—4.00g/L糖精钠 代合成技术的迅速发展,甲基磺酸的生产成本大幅度 (初级光亮剂),0~0.80g/L1,4一丁炔二醇(次级光亮 下降,关于 甲基磺酸盐电镀工艺的研究又逐渐增多;但 剂),0~0.20g/L十二烷基硫酸钠 (辅助光亮剂), 目前有关甲基磺酸盐镀镍工艺参数对镀层性能影响规 0.10~0.90g/L对 甲苯磺酰胺 (初级光亮剂);温度 律的研究仍然偏少。本工作以甲基磺酸盐镀镍液为基 20—60oC,pH值 1.2~4.5,电流密度 l一40A/dm2,阳 础 ,分析了添加剂的种类 (初级光亮剂糖精

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