钛酸锶掺杂改性研究进展.pdfVIP

  1. 1、本文档共5页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
石油、天然气工业

2014年2月 材 料 开 发 与 应 用 ·89 · 文章编号:1003.1545(2014)O1-0089-05 钛酸锶掺杂改性研究进展 常亮亮 (商洛学院 陕西省尾矿综合利用重点实验室,陕西 商洛 726000) 摘 要:钛酸锶SrTiO,(STO)具有优 良的铁电、介电性能 ,在可调谐微波器件、动态随机存储器、红外探测器阵 列等方面具有 良好的应用前景。综述了近年来 STO掺杂改性研究所取得的进展,对施主掺杂和受主掺杂进 行了较详细的评述,并对 目前STO掺杂研究的几个前沿问题进行了详细的讨论。 关键词:钛酸锶;掺杂改性 中图分类号:O614.33 文献标识码:A ResearchProgressofDopedStrontium Titanate CHANGLiang—liang (ShaanxiKeyLaboratoryofComprehensiveUtilizationofTailingsResources,ShangluoUniversity,Shangluo,726000,China) Abstract:Duetothegoodferroelectricanddielectricproperties,strontiumtitanate(STO)hasapromisingapplicationintunable microwavedevices,DRAMs,IR detectorarraysandSOon.Thispapersummarizstheeffectofdonordoingandacceptordopingin STthinfilmsreposedinmanyliteraturesrecentlyyears.SomesophisticatedproblemsinSTthinfilmsdopingarealsoattentively discussed. Keywords:STO;doping 钛酸锶SrTiO (STO)属于钙钛矿结构,具有 杂。因此,本文概述了近年来 STO的掺杂情况。 独特的介电特性和奇妙的物理特性 ¨。例如:其 电容-压敏复合功能陶瓷不但具有优 良的非欧姆 l 杂质离子在SrTiO结构中位置 性 ,而且具有可与边界层电容器相 比的高介电常 数和很小的介电损耗:在光电化学电池(PEC)的 理想 SrTiO 属于立方品系如图1.在室温下 研究中,为了克服 Si或 GaAs非氧化阳极对光电 是一种理想的ABO 型钙钛矿型复合氧化物 它 化学的不稳定性,需要在阳极上沉积一层惰性的 属于空间群 Pm3m(Oh1),品格常数 a=厶=c: 保护层,n型半导化 STO特别适合这一用途 。 0.3905nm 。许多文献报道,SrTiO 的居里温度 因此STO在低 电压逻辑 电路和微机等的抗干扰 = 106K,当T 时,SrTiO 由立方相变为四 电路 中,具有不町替代 的应用前景 。 方相 [61SrTiO 晶体中,较大的阳离子 Srh占据立 然而,STO材料也有它的不足之处,例如用 方晶胞8个顶角的位置(A位),配位数为 12;半径 STO制作电容器、MLC部件的绝缘电阻时,在高温 较小的阳离子 “位于品胞的体心的位置(B位), 高电压领域中晶界垒势减弱,导致通过这些部件 配位数为6,阴离子0 位于面心 I。当杂质离子 漏电流增大 。同时,在室温下,钛酸锶是绝缘 进入 STO薄膜材料中时,杂质离子可以取代A位或 体,限制了其在半导体方面的应用。为了克服这 B位 .如:掺杂离子的离子半径和电负性接近 s, 些缺点,研究者尝试给钛酸锶材料改性。目前, 或

文档评论(0)

fengbing + 关注
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档