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片状ZnO薄膜的制备及其在DSSC中的光电性能研究.pdf
第40卷第3期 人 工 晶 体 学 报 v01．40No_3
垫!!堡垒旦 』Q型垦堕些Q!坚!匹望垦里垦竺垦!坠堡 !坚些：垫!!
片状ZnO薄膜的制备及其在DSSC中的
光电性能研究
张林森，李素珍，王力臻，董会超，齐翔
(郑州轻工业学院材料与化学工程学院，河南省表界面科学重点实验室，郑州450002)
摘要：采用均匀沉淀法在导电玻璃基体上制备ZnO前驱体薄膜，然后热分解前驱体制备出ZnO薄膜用作染料敏化
(zn“)、zn“浓度、均匀沉淀反应温度、薄膜焙烧温度等工艺因素对ZnO在DSSC中的光电性能影响。结果表明，
均匀沉淀法制备ZnO薄膜为六方纤锌矿结构，ZnO薄膜以片状在基体上生长。优化的ZnO薄膜组装的DSSC在
100
roW／era2下的短路电流为5．39mA／cm2，开路电压为0．516V。
关键词：均匀沉淀法；ZnO薄膜；DSSC；片状
中图分类号：TM914 文献标识码：A
andPhotoelectricPerformanceof
Synthesis SheetZnO
ThinFilmsin Solar
Cells
Dye-Sensitized
ZHANG
Lin—sen，LISu-zhen，WANGLi—zhen，DONG
Hui—chao，QIXiang
ofMaterialandChemicM ofSurface＆InterfaceScienceand
Laboratory
(College Engineering，Key Technology，
of
ZhengzhouUniversityLightIndustry，Zhengzhou450002，China)
27December 16March
(Received 2010，accepted2011)
Abstract：TheofZnOthinfilmwas ontheconductivesubstrates
precursor deposited glass by
film for
method．ThenZnOthin used of solarcell
homogeneousprecipitation photoanode
dye—sensitized
obtained
thermal ofthe structureandsurface
(DSSC)wasby decompositionprecursor．The morphology
oftheZnOth
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