用于成像系统的高矢高透镜阵列光刻技术.pdfVIP

V01．14No．20 第14卷第20期2014年7月科学技术与工程 Jul．2014 Science 1671 Technology-and ⑥2014Sei．Teeh．Engrg． 1815(2014)20—0167—05 Engineering 用于成像系统的高矢高透镜阵列光刻技术 张裕坤1，2，3 张志友1 杜惊雷1 尹韶云2 史立芳3 邓启凌3 董小春3 杜春雷2 (四川大学物理科学与技术学院1，成都610064； 中国科学院重庆绿色智能技术研究院2，重庆401122 中国科学院光电技术研究所3，成都610209) 摘要在移动掩模光刻技术的基础上，提出一种可用于成像系统的高矢高透镜阵列制备的二次光刻方法。二次光刻分别 用于减小抗蚀剂表面粗糙度和借助移动掩模光刻制备高矢高透镜阵列。通过这种方法，制备了矢高254¨m的透镜阵列。透 镜矢高约为传统移动掩模光刻技术制备透镜阵列矢高的二倍。进而，制备的透镜阵列被用于集成成像系统，获得了高质量的 三维图像。这一结果很好地证明了此种二次光刻方法可用于成像系统高矢高透镜阵列的制备，具有较好的应用前景。 关键词矢高 透镜阵列 成像 中图法分类号0439； 文献标志码A is amoreandmore the ofthemaskis Recently，lensmfayplaying adjustinggeometricalparameters pro— roleon as our microlenswithsize500 importantcompactimagingsystems，suchposedby group．The mfay widefield basedon andrelief 114 isachievedin imagingsystem compoundIxm depthIxm [18,1 ontheresearchofsonlescien． SOon．Vividim— 9I．However．based eye[1_3]．integralimaging[4_7]．and canbeachieved tists，the lensletsizeismillimeterdimensionin ages byemployinghigh—performanceoptimal lens needstohavesmoothsurfaceand some thiscase．therelief array，which imagingsystems[1，4I．In shortfocal for the shouldbemuch for shortfocal lengthsystemintegration．Forpast depth higherkeeping methodshavebeen forthefab— resistmus