直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用.pdfVIP

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2015-09-11 发布于湖北
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直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用.pdf

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直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用.pdf

第40卷第1期人工晶体学报 v。1．40N。．1 垫!!生兰旦 !．』Q望曼堕垒兰里!：量兰型三望墅!坚三：篁垦兰篁呈叁兰皇：：：：：：：：：：：：：：：：：：!皇!呈竺曼垒坠直流弧光放电PCVD金刚石膜制备中基底控温系统的研制与应用张湘辉1”，汪灵1”，龙剑平1’2 (1．成都理工大学材料与化学化工学院，成都610059；2．成都理工大学金刚石薄膜实验室，成都610059) 摘要：基于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜沉积设备的特点，设计开发了基底自动控温系统。将该系统应用于金刚石薄膜的制备中，并采用SEM、Ralnan光谱等测试方法对所制备的薄膜的形貌、品质进行了表征。结果证明该系统具有较好的稳定性，其应用时所制备的金刚石薄膜的品质明显得到提高，具有广泛的应用前景。关键词：直流弧光放电；等离子体CVD；金刚石薄膜；基底托架；温度自动控制中图分类号：TP273 文献标识码：A and ofSubstrate Control DesignApplication System Temperature in Arc FilmsDefice DC PCVDDiamond Discharge ZHANG Xiang．huil”，WANGLin91”，LONGJian-pin912 of Materialsand (1．College ChemistryChemicalEngineering，ChengduUniversityofTechnology，Chengdu610059，China； ofDiamond of 2．KeyLaboratory Film，ChengduUniversityTechnology，Chengdu610059，China) 30November (Received 2010，accepted 2010) 7禺咖”16er Abstract：A autocontrol hadbeen fora substrateholder onthe temperature system developed apparatus filmswere DC basisoftheDCarc CVD CVDdiamond dischargeplasmagrowthsystem．The depositedby and of arc thenovel abovementioned．The diamond dischargeplasmausing technique morphologyquality films electron laserRaman results we