真空热压技术制备EOS实验用LiH薄膜.pdfVIP

第42卷 第2期 稀有金属材料与工程 V01．42，No．2 2013 2013芷 2月 RAREMETALMATERIALSANDENGINEERING February 真空热压技术制备EOS实验用LiH薄膜 谢军，邢丕峰，易泰民，赵利平， 李朝阳，杨蒙生，郑凤成，张林 f中国工程物理研究院， 四J|l绵阳621900) 摘要：氢化锂(LiH)是重要的热核材料，其状态方程参数是惯性约束聚变研究的重要内容。本工作采用真空热压技 度小于100um、厚度～致性约98％的氢化锂薄膜，表面粗糙度小于100am，热压后密度增加，达到0．780 g／cm3。X射 线衍射分析结果表明：薄膜的主要成分为氢化锂，薄膜存在择优取向、内应力、晶粒细化等特征。 关键词：氢化锂；薄膜；热压；状态方程 中图法分类号：TGl46．2+6文献标识码：A 文章编号：1002—185X(2013)02．0424-05 氢化锂(LiH)是重要的热核材料，其具有密度低、获得厚度小于100um的氢化锂薄膜。 原子序数低等性质，可作为低能量x光散射及输运材 1 实 验 料、轻质中子屏蔽或减速剂等【1】；又由于其含有大量的 氢，是很好的储氢材料，被用作可携带的二次氢源，其 实验设备为真空热压接机，可提供的压力、温度 在新能源开发方面具有重要用途，可以用它作燃料Ⅲ； 及真空等保障条件条件，避免LiH与水、二氧化碳反 在激光核聚变的理论研究及实验测试中，LiH、LiD、应，对LiH进行热压，热压装置如图1。实验采用 Ambios LiDT等常被制作成微小球形或柱形靶丸，作为柱腔靶 XP200台阶仪测量样品表面粗糙度，采用奥林 填充材[2】；氢化锂薄膜有望解决点火靶聚变反应自持和 巴斯测量显微镜对LiH薄膜厚度进行测量，采用精度 为了延长反应时间而增加DT冰层所带来的表面粗糙 百万分之一天平称量LiH质量，样品不规则形状面积 度增加的问题；而这些应用均要求对LiH的状态方程 采用KH7700三维数字显微镜测量，通过扫描电镜、 ofstate，EOS)参数【3J有深入的研究。KH7700显微镜测量观察氢化锂表面及断面形貌，通 (Equation 厚度小于100um的LiH薄膜对研究其高压状态方过x射线衍射仪测量薄膜组织结构。 程具有重要的意义。在实验用靶的制备方面，对薄膜的 氢化锂是类盐(氯化钠型)的结晶化合物，具有面 mm× 形状、尺寸精度有较高的要求，厚度一般为几微米至几 心立方体结构[10】。实验原料采用粉末压制成函10 3 十微米，表面均方根粗糙度达到纳米级【4。61，而且要求 mm的LiH圆片，白色半透明状。经测试，密度为 薄膜的厚度一致性好于98％，薄膜材料的纯度要高， 0．751 g／cm2[10]。选 g／cm2，小于25℃时理论密度0．775 密度达到或接近晶体理论密度。国内外曾报道采用电阻 蒸发法、磁控溅射、脉冲激光沉积制备氢化锂薄膜【J7‘91， 但这些方法制备的LiH薄膜密度小于原材料密度，且 厚度一般为纳米级，要制备微米级厚度的薄膜比较困 难。为了减少物理实验结果的不确信度，要求LiH薄 膜密度达到或接近晶体理论密度。LiH为白色或带蓝灰 色的半透明