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脉冲激光沉积技术制备的钪型阴极的发射性能.pdf

第36 卷第3 期 电 子 与 信 息 学 报 Vol.36 No.3 2014 年3 月 Journal of Electronics Information Technology Mar. 2014 脉冲激光沉积技术制备的钪型阴极的发射性能 *①② ① ① ① ① ① 彭 真 阴生毅 郑 强 王欣欣 王 宇 李 阳 ① (中国科学院电子学研究所 北京 100190) ②(中国科学院大学 北京 100039) 摘 要:为提高阴极的发射性能以满足新型器件的需求,该文利用脉冲激光沉积技术制备了一种覆W+BaO- Sc O -SrO薄膜的浸渍扩散阴极。实验测得了该阴极在不同温度下的伏安特性曲线,并探讨了发射机制。结果表 2 3 2 明,在1100 C 工作温度下,该阴极的零场发射电流密度达到305.5 A/cm ;阴极表面形成的Ba-Sc-Sr-O活性层是 阴极获得高发射性能的主要原因。文章还利用半导体模型解释了该阴极的非正常肖特基效应。 关键词:钪型阴极;半导体模型;脉冲激光沉积;非正常肖特基效应 中图分类号:O462 文献标识码: A 文章编号:1009-5896(2014)03-0754-04 DOI: 10.3724/SP.J.1146.2013.00566 Emission Performance of Scandate Cathodes Prepared by Pulse Laser Deposition ①② ① ① ① ① ① Peng Zhen Yin Sheng-yi Zheng Qiang Wang Xin-xin Wang Yu Li Yang ① (Institute of Electronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ② (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China) Abstract: In order to improve the emission performance of cathodes to meet the demands of new type devices, this paper develops a new-type scandate cathode coated with W+BaO-Sc O -SrO film prepared by Pulse Laser 2 3 Deposition (PLD) technology. The experiment obtains emission current characteristics measured as a function of voltage and temperature and analyzes the emis

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