CuCl+注入α-Al2O3晶体退火后表面亚微米颗粒的形成情况研究.pdf

·4· 材料开发与应用 2008年12月 CuCl+注入仪一Ab03晶体退火后表面 亚微米颗粒的形成情况研究 王春芬1，黄宁康2，张海峰1，张永辉1 (1．中国船舶重工集团公司第七--Z研究所，河南洛阳471039；2．四川大学原子核科学技术研究所。 教育部辐射物理及技术重点实验室，l四Jll成都610064) 摘要：CuCI+离子注入不同晶向的a—A120，晶体中，对在还原气氛下退火后的试样进行SEM表面观察。结 果发现，不同注入条件和不同温度退火的不同晶向d—Ah0，晶体表面均形成弥散的亚微米颗粒。说明 CuCI+离子注入a一鸽q晶体产生的缺陷损伤在退火过程中，单个分散的带电色心缺陷与CuCl+离子形成 的缺陷缔合体在恢复过程中发生了CuCl原子的偏聚，随着退火时间的增加，偏聚程度提高而形成颗粒，并逐 渐长大形成亚微米颗粒。颗粒的大小和分布随注入条件以及退火温度不同而不同。 关键词：离子注入；退火；偏聚；亚微米颗粒 中图分类号：TGl74．4；0433．5文献标识码：A 早在上世纪50年代，Scott、Levy等人对碱金 属卤化物单晶进行光吸收谱测量，对因受制备条 属于较为典型的离子晶体，具有硬度高、熔点高、 件所限而混杂在单晶中的杂质引起的着色产生 化学稳定性好、耐辐射能力强等优点。掺杂的Ot 了浓厚的兴趣。人们用许多办法把晶体着色，并 —A1：0，晶体在光学性能方面有特殊用途。为了 发现这是由于晶体中存在所谓色心缺陷的缘故。 研究不同的掺杂效果，采用离子注入方法进行d 同时发现溶胶颜色的变化与存在溶胶中微粒的 —A1：0，晶体掺杂是一个十分简便、可控的方法。 尺寸有关。到了70年代，美国G．W．Amold采用离子注入d—AI：0，的研究中除了能产生F 离子注入这种非稳态的工艺人为引入一些金属 和F+心外，还发现了其它的阴离子色心、阳离子 元素至锂一铝一硅化玻璃中，通过退火等方式， 色心。此外，还发现采用不同种类的离子如H+、 发现在一定条件下，这些注入杂质会偏聚成颗粒 H：+、He+注人a—Al：O，中，都具有十分相似的 而长大。80年代初，日、英、法、澳、中等国相继进 阴离子色心。而在我们的试验中，我们采用的化 行了这方面的研究，并发现这种颗粒会有不同 合物离子是CuCI+，通过前期的试验我们知道 组成、形状、大小及分布。同期，人们发现粒子轰 CuCI+离子注入俚一AI：0，晶体产生的点缺陷主 击造成晶体损伤形成色心一杂质的复合结构在 要为F心、F+心、F2“心、F2心、F2+心。本文通 光吸收和发射谱上显示明显的波峰，并发现采用 过CuCI+离子的注入及其随后的退火试验，研究 各种退火方式，注入元素在一定条件下可以形成 其表面亚微米粒子的形成情况。 各种形状、大小可控的颗粒。这一发现逐渐被人 们所重视，不只是因为在单晶片中弥散各种大小 1试验方法 颗粒，而且这些弥散颗粒具有本身的结构特征和 性能，因而更显示出重大的应用前景。 光学级抛光的q—AI：0，晶体，切成大小为 (It—A120，是A120，晶体中最稳定的一种结 12mm×8mm左右，厚度约0．3mm的晶片。这些 构，其空问对称为D。3d，对称要素在结晶学上表 基体晶片在进行离子注入前进行1450。C下的退 收稿日期：2008—06—25 基金项目：国家自然科学基金资助项目 万方数据 第23卷第6期 王春芬等：CuCI+注人口一A1：O，晶体退火后表面亚微米颗粒的形成情况研究 ·5· 火，时间为12h，退火的目的是消除加工过程中 率降温，当炉温达到300℃后切断电源，炉冷至室 产生的应力。CuCl+离子注入试验是在离子注入温后取出。 机上进行的，注人剂量为6×1016—5×1017ions／ cm2，注人能