辉光深度定量分析模型中de缺陷和解决方法.pdfVIP

冶金分析 ，2015，35(1)：i-5 MetallurgicalAnalysis，2015，35(1)：1-5 辉光深度定量分析模型中的缺陷和解决方法 余卫华 ，李江文，于录军 ，张穗忠 (武钢研究院，湖北武汉 430O80) 摘 要：辉光放 电发射光谱分析是一个十分有用的表面分析技术 。利用溅射率模型，能建立一 个涵盖基体和涂镀层中主元素含量变化的宽浓度范围的工作 曲线，通过工作 曲线，直接得到的 强度一时间谱 图可以转换为含量一深度谱 图。在这个过程 中，需要计算每个溅射层的密度数据， 而每一层的密度不能准确计算是该模型的一个缺 陷。化合物 中元素 电负性决定 了键 的性质， 进而决定 了原子间距 ，而原子 间距是进行密度理论计算的关键点。为 了方便密度的理论计算， 将物质分类建立密度计算模型。对于合金层 ，将原子认为是密集堆积来计算其密度；对于单质 和单一的化合物 ，可以直接调用数据库 中的密度数据；对于合金和化合物的混合，用合金原子 和化合物之 间为密集堆积来计算其密度 。这种密度计算的方法有一定的局 限性，但是在一些 实际应用中也取得 了很好的效果。 关键词 ：辉光放 电发射光谱 ；密度；密堆积；合金 ；化合物 文献标志码 ：A 文章编号 ：1000—757l(2O15)01-0001-05 随着科技的进步 ，用户对材料 的性能提 出了越 率模型中，能通过工作 曲线将元素强度转换为元素 来越高的要求 ，为了满足用户的苛刻要求 ，一方面需 含量 ，结合一些理论计算 ，将激发时间转换为溅射深 要研发 、生产新型材料 ，另一方面 ，可 以使用涂镀技 度 。本文讨论的就是该模 型的缺陷 ，并提 出相应 的 术来提高材料 的表面性能。涂层 、镀层材料 的广泛 解决方法。 使用 ，使得表面分析技术 的应用也越来越广泛 。 1 理论模型简介 表面分析技术是通过微观粒子与表面的相互作 用获得表面信息 的l1]。常用 的表面分析方法有 X 在涂镀层 的定量分析 中，涂镀层主元素和基体 光电子能谱、俄歇 电子能谱、二次离子质谱和 x射 中的主元素含量最大变化范 围是 095／～100 ，为 了 线荧光光谱等 ]。辉光放 电光谱法从主要用于金属 让同一个工作 曲线 能满足宽含量范围，需要采用溅 成分分析的方法 ，发展成为一种适合于金属 、非金 射率和相对溅射率的概念。 属 、薄膜、半导体、绝缘体和有机材料分析的表面分 溅射率 (帅)是单位时间内、单位激发坑面积上 析技术_3]。辉光光谱的分析时间较短 (一般为几分 样 品的损失质量。一般情况下 ，元素含量 (c)和元 钟到十几分钟)，深度分辨率可以达到纳米级_6]。和 素强度 ()的关系由工作曲线方程表示 ： 其他表面分析方法比较 ，辉光光谱具有分析速度快、 c ·qM一 _厂( ) (1) 定量方便、价格便宜、易于操作等优势 ，在表面分析 由于所有元素含量的加和为 100 ，所以： 中的应用越来越广泛 [7。 。 ∑( qM)一gM∑Ci—qM一∑f(i)(2) 辉光放电发射光谱对涂镀层进行定量深度分析 时 ，仪器给出的是各个元素强度 随着激发时间变化 c一∑f(I) (3) 的谱 图，而实验希望得到的是涂镀层不 同深度处的 又根据溅射率的定义 ，得到 ： 元素含量 。在这个转换过程 中，需要一个定量分析