V—Ti催化剂表面单层分散研究.pdfVIP

石 油 化 工 ·280· PETROCHEMICALTECHNOLOGY 2008年第37卷增刊 V—Ti催化剂表面单层分散的研究 赵 曦1，王焕茹1，盛丁杰2 (1．北京化工研究院分析研究室，北京100013；2．北京化工研究院精细部，北京100013) [摘要]通过x射线光电子能谱、x射线衍射等表征手段研究了V—Ti催化剂中V205在载体中的分散状态．结果表明，催化剂中 部分V205以单层或亚单层分散的形式存在，部分V205形成品粒分散在载体颗粒中间；测定r表面分散层的厚度。并对单层分散 阈值和v205的表面分布密度进行r计算。 [关键词]钒一钛催化剂；单层分散；x射线光电子能谱；x射线衍射 426．82 [中图分类号]TQ [文献标识码]A V一噩催化剂作为一种氧化还原催化剂广泛应用 中加入助剂，将制得的溶液和钛白粉加入到球磨罐 于够二甲苯制苯酐等选择性氧化的工艺过程中。对V一 中进行球磨得到催化剂活性浆液。利用喷涂设备 1I催化剂的结构和机理方面研究的焦点近几年集中在 将催化剂活性浆液喷涂到载体上，控制一定的喷涂 温度和喷涂速度，最后取出催化剂烘干，即制得V— 以下几个方面：(1)V205的单鼢散；(2)V205和叽02之 间的相互作用；(3)V元素在催化剂中的化学状态…。 Ti催化剂成品。 单层分散是指一种化合物以二维状态覆盖在 1．2 XPS表征方法 另一种化合物载体表面的现象。在许多催化剂中， 所有试样的分析都是于室温在SigmaProbe系 最佳催化剂活性组分含量往往和最大单层分散量 统上完成的。试样分析室中压力一般在l× 486．6 有密切关系，因此对于催化剂研究来说，表面分散 10“Pa；X射线源为舢致，能量leV；分析 区域400 状态的测定非常有意义旧J。 ttm；仪器能量的校准采用Au4L，Ag3d5， Cu eV，步长O．1eV。 固体化合物在载体上的自发单层分散是一种相当 2p3；元素窄扫过程中通过能50 普遍的存在状态。单层分散的热力学根源在于被分散 试样粉末用Scotch双面胶固定在试样台上。试样 Is284．8 的固体由三维有序的晶相变为二维表面单层分散相， 的荷电校正以C eV为标准进行校正。 无序度增大，熵总是大大增加。同时被分散的固体化 氩离子刻蚀深度剖析实验条件：离子束强度 合物的原子(离子、分子)与载体表面的原子(离子、分 3kV，粒子束流l斗A，放大倍数10倍；转速lO∥圈。 子)可形成有一定强度的表面键。只要这种表面键与 1．3 XRD表征方法 被分散的固体内部原有的键相比不是特别弱，分散造 实验采用荷兰Philips公司的X’PertMPD型 成的能量变化和焓变(固体反应焓变和能量变化差不 多功能XRD仪，Cu靶，管电压40kV，管电流 多)就不大，体系的总自由能就会降低HJ。 40 一种固体化合物在一种载体上实现单层分散的 2结果与讨论 最大分散容量称饱和分散阈值。阈值前活性组分全 部以单层分散态存在，阈值后多余的活性组分以晶态 2．1 XRD表征结果 等形式出现。由于阈值前后物相结构的变化，体系的 为了证实V：05在TiO：表面单层分散的存在以 许多性质也会在阈值处出现转折，称