立方相β-GaN纳米晶的气相化学反应制备研究.pdfVIP

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立方相β-GaN纳米晶的气相化学反应制备研究.pdf

第54卷第5期2005年5月 物 理学报 1000..3290/2005/54(05)/2267..05 ACTAPHYSICASINICA ⑥2005 Chin.Phys.Soc. 立方相p-GaN纳米晶的气相化学反应制备研究* 方 鲲1’2’+ 高善民3’ 邱海林1’ 曹传宝1’ 朱鹤孙1’ 1’(北京理工大学材料科学研究中心,北京100081) 2’(北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083) 3’(烟台师范学院化学与材料科学学院,烟台264025) (2004年1月9日收到;2004年9月23日收到修改稿) 在氮气氛中,以GaP纳米晶为原料,在相对较低的反应温度下,通过N—P取代的气相化学反应制备立方相B— GaN纳米晶.这是由于GaP纳米晶具有较大的比表面积和表面众多的空位键,使之具有较高的反应活性造成的.不 同升温速率造成不同的化学反应机理,从而生成不同形貌的B-GaN纳米晶材料. 关键词:氮化镓,立方相,纳米晶 PACC:7280E,7855E 米晶的制备提供了一种实用、简单的方法. 1.引 言 2.实 验 Ⅲ.V族化合物半导体材料在光电子器件应用 和基础物理研究方面一直占据重要位置….由于纳 2.1.实验过程 米材料展现出诱人的应用前景旧_40,因此,近年来对 Ⅲ一V族化合物半导体纳米材料的研究也日益增 以N如P和GaCl,为反应原料,采用苯热合成方 多b’6].氮化镓(GaN)是Ⅲ.V族化合物半导体材料中法制备GaP纳米晶,详细实验过程已另有报道¨8|. 的重要成员,一直是人们研究的热点一_91.虽说近几 8.GaN纳米晶的制备在管式炉中进行.将GaP纳米晶 年对GaN纳米晶的研究报道也在增加,但大都限于 放入石英舟中,然后放入水平放置的石英管,再放入 比较易制备的六方相纤锌矿结构的a—GaN纳米精确控温的管式炉中.加热前首先将石英管抽真空, ml/min 然后充入N,,再抽真空,反复几次后,以200 晶¨0’“o,而对立方相闪锌矿结构的8一GaN纳米晶研 究大多限于其薄膜材料¨2’13j.虽有制备13.GaN纳米 速率通入纯度为99.999%的N:,以不同的升温速率 晶报道¨4’”。,但化学反应条件比较苛刻,且产物大多 升温加热到预定温度,并保持一定时间,在继续通人 是混合晶相GaN.和a.GaN纳米晶比较,8.GaN纳米 N,的条件下自然冷却到室温,取出粉末样品检测. 晶同样具备优越物理性能,室温下带隙为3.2eV,比 2.2.样品测试 eVu a—GaN纳米晶的带隙小0.2 6|,容易进行P型掺 杂和进行激光刻蚀,更易达到蓝绿光区¨7|.因此,无 采用x射线衍射技术对粉末样品的结构进行表 论从理论研究上,还是在实际应用中,对B—GaN纳米 D/max.yA型x射线衍射仪, 征,所用仪器为Rigaku 晶进行研究都具有重要意义.

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