UO2薄膜制备和光学常数及厚度测定.pdfVIP

第44卷第9期 原子能科学技术 V01．44，No．9 2010年9月 Atomic Scienceand Energy Technology Sep．2010 U02薄膜制备和光学常数及厚度测定 陈秋云，赖新春，白 彬，张桂凯，罗丽珠，蒋春丽 (表面物理与化学国家重点实验室，四川绵阳621907) 摘要：利用磁控溅射法制备了UOz薄膜，通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪， 200 对薄膜进行了分析和表征。利用反射光谱法测得了薄膜在400～1nm波长范围内的反射率。通过 950 对反射图谱进行数据拟合，得出UOz薄膜在450IIITI波长范围内的折射率为2．1～2．65，消光系数 nm。 约0．51，厚度为