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乙醇溶液中电沉积CuInSe2(CIS)薄膜过程研究.pdf
第37卷第6期 人 工 晶 体 学 报 V01．37No．6
OFSYNTHETICCRYSTALS
2008年12月 JOURNAL
龙 飞1,2，杜晶晶1，邹孟光1
(1．桂林工学院有色金属材料及其加工新技术教育部重点实验室，桂林541004
2．武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室，武汉430070)
摘要：采用三电极体系，以钼片为工作电极，大面积铂网为辅助电极，饱和甘汞电极(SCE)为参比电极，以氯化铜、
氯化铟、亚硒酸为原料，在无水乙醇溶液中，用阴极恒流和恒压两种沉积方法制备出CIS前驱体薄膜，采用XRD和
EDAX对制备的薄膜进行了表征，分析了沉积方式、镀液离子浓度、导电盐(LiCl)含量及热处理工艺等因素对薄膜
成分及形貌的影响，并对电沉积CIS薄膜的机理进行了初步探讨。在最优条件下所制备的薄膜成分接近标准比且
表面致密、均匀。
关键词：电沉积；CIS薄膜；电流密度；沉积电压
中图分类号：0484 文献标识码：A
of inAlcoholSolution
UsingElectrodeposition
StudyCuInSe2(CIS)Films
LONG
Feil_，DU
ring-rin91，ZOUZheng—guan91
ofNonferrousMaterialsandNew of of of
Technology Education，GuilinUniversityTechnology
(1．KeyLaboratory Processing Ministry
Guilin ofAdvanced forMaterials
541004，China；2．StateKeyLaboratory Technology Synthesis
and of
Progressing，WuhanUniversityTechnology，Wuhan430070，China)
2 13
(ReceivedJanuary2008，acceptedFebruary2008)
Abstract：CISfilmswere constantcurrentcathodic and
precursor preparedby electrodeposition
ina three—electrode sheetasworking
potentiostaticelectrodeposition system，usingmolybdenum
asacounter standardcalomel referenceelectrode．
electrode，Pt—meshelectrode，and electrode(SCE)as
The solutionwas of
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