VN(Ti,Al)N纳米多层膜的共格生长与超硬效应.pdfVIP

第40卷第10期 上海交通大学学报 v01．40No．10 2006年10月 SHANGHAI 0ct．2006 JOURNAL0F JIAOTONGUNIVERSITY 文章编号：1006—2467(2006)10—1758一05 孔 明1， 董云杉1， 戴嘉维2 张慧娟2， 李戈扬1 (1．上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室，上海200030； 2．上海交通大学高温材料与高温测试教育部重点实验室，上海200030) 摘 要：采用反应磁控溅射技术制备了一系列具有不同调制周期的VN／(Ti，A1)N纳米多层膜． 利用高分辨透射电子显微镜、x_射线衍射仪和微力学探针表征了纳米多层膜的微结构和力学性 能，从而研究其微结构与力学性能之间的关系．结果表明，小调制周期时，VN／(Ti，A1)N纳米多层 膜沿薄膜生长方向呈现出具有面心立方(111)晶面择优取向的共格外延生长结构．由于存在晶格错 配，在共格界面作用下，VN和(Ti，A1)N调制层分别受到拉、压应力，在多层膜中产生以调制周期 为周期的交变应力场．这种应力场大大阻碍了薄膜中位错穿过界面的运动，从而导致薄膜产生硬度 和弹性模量异常升高的超硬效应，并在调制周期为5．6nm时，达到硬度和弹性模量的最高值38．4 GPa和421 GPa．进一步增加调制周期，两调制层之间产生非共格界面，破坏了薄膜中的交变应力 场，薄膜的硬度和弹性模量也随之降低． 关键词：VN／(Ti，A1)N纳米多层膜；晶体生长；共格界面；力学性能 中图分类号：O484 文献标识码：A The COherentGrOwthand EffeCtOf Superhardness VN／(Ti，A1)N Nano—muIt．Iayers KONG DAJ DONGl么咒一曲口咒1， Ji口一∞Pi2， ZHANG LJ Mi行91， H甜巧“彻2， G8一yn咒91 (1．StateLab．of Key MMCs，ShanghaiJiaotongUniv．，Shanghai200030，China； Lab．ofthe ofEducationfor Materialsand 2．Key Ministry HighTemperature Testing， ShanghaiJiaotongUniv．，Shanghai200030，China) Abstract：Aseriesof withvariousmodulation VN／(Ti，A1)Nnano—multilayers periodswereprepared reactive method．Themicrostructureandmechanical ofthesemulti— using magnetronsputtering properties werecharacterized with transmissionelectron and layers X—raydiffractometry，high—resoluti