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㈡锁模方法①?主动锁模在腔内放置调制元件,对光作振幅、相位或强度调制,由外部人工控制叫主动锁模。 以振幅调制为例：当光通过电光晶体时,如果外加电压周期性变化则光的偏振性也周期性变化,通过起偏和检偏,可获得振幅周期变化的调制波。 式中Ec=E0T, M 叫调制度, M=ΔT/T。上式可化为电光调制除原有的频率成分外,产生两个边频成分,即 使调制频率与纵模间隔相等, 则三个模都是腔的纵模并有相同的相位。调制又从新的模激发出它的边频，并保持相同的相位（或相邻纵模有相同的相位差 ）。◎从时域中看, 由于透射系数随时间周期性变化只有经过调制器时损耗最小的脉冲才能优先放大，形成锁模脉冲。◎窄带宽增益介质，脉宽：10-100ps除电光调制外还常用声光调制 t Active mode locking → A/O modulator（声光调制） Passive mode locking → Saturable dye（染料饱和吸收体） 损耗 z 锁模方法原理图 ②被动锁模 在腔内放可饱和吸收体, 利用其吸收随光强改变的特性，调制光强达到锁模。 不需外部控制故叫被动锁模◆在激光波长处有吸收,◆吸收带宽应大于增益带宽, ◆吸收饱和光强要低于增益介质的 饱和光强,◆吸收饱和的弛豫时间应远短于光 在腔内往返一周所需的时间。 可饱和吸收体通常为染料溶液或固体染料新技术：SESAM-半导体饱和吸收镜被动锁模最好从时域中分析?光强较大的尖脉冲首先使其吸收饱和, 故更易得到放大,其余小脉冲受到抑 制. ?脉冲在经过吸收介质和增益介质时还 受到整形使脉冲宽度变得更窄,峰值 更高. ③新的锁模技术—克尔透镜锁模（自锁模）1990年Sibbett工作小组，介绍了没有使用可饱和吸收体的Ti:Sapphire激光器，脉宽达到60fs，当时并不知道原理。 利用非线性光学效应，光学克尔效应在强光下，介质的折射率随光强改变 克尔介质  设光脉冲的空间波形和时间波形皆是高斯型 ?自聚焦 ?自相位调制导致频谱增宽，但不能使相位一致（啁啾脉冲）利用色散元件进行补偿，可进一步压缩脉冲 kerr透镜等价于由自身控制的光开关（自锁模）