三氯氢硅生产注意事项.docVIP

目前，国内外应用最广，最主要的制备超纯硅的方法，是以三氯氢硅为原料，（即改良西门子法）。故三氯氢硅的合成在半导体材料硅的生产中引起了广泛注意，并取得不少成果。3 r4 J. I8 {- O% e5 c三氯氢硅和四氯化硅的结构、化学性质相似。因此，它们的制备方法基本相似，只是前者用氯化氢气体代替氯气进行反应，在方法、设备、工艺操作等方面有共同之处，本章只介绍其特性。/ n9 C2 r- z) r三氯氢硅的制备方法很多，如：6 F- B( @. L8 W3 }) }1）用卤硅烷和过量的氢或氯化氢的混合物通过Al，Zn，或Mg的表面。$ }1 g??B( Q. O/ R+ j% n% h2）以氯化铝作催化剂，用氯化氢气体氯化SiH4。+ P9 l$ j# p/ i- a3）在高温下用氢气部分还原SiCl4。6 k5 `8 P1 w+ g+ \, W) Y4）用干燥氯化氢气体氯化粗硅或硅合金。0 M) m, A. P3 s/ a! s) j k前三种方法产率低、过程繁、产品沾污机会多、实用价值很小。因此，工厂和试验室多采用第4种方法制备三氯氢硅。+ w5 D, |1 R4 X% ]第一节 三氯氢硅的性质) A; D! W- [! F; q$ u? ?三氯氢硅（SiHCl3）又称三氯硅烷或硅氯仿。三氯氢硅是无色透明、在空气中强烈发烟的液体。极易挥发、易水解、易燃易爆、易溶于有机溶剂。有强腐蚀性、有毒，对人体呼吸系统有强烈的刺激作用。其物理化学性质见表6 ?6 T }( @4 l表3-1??三氯氢硅的物理化学性质1 b: N0 t) ]! B??N7 o/ ^1 Q名? ? 称? ?? ???数? ?值? ?? ???名? ???称? ?? ???数 值; [8 D+ J. }4 O$ ~6 l分 子 量? ?? ???135．45? ?? ???氢含量 ％? ?? ???0.745 `. n) t) [1 U1 i T液体密度（31.5℃） + @* A1 ?! X) \- y1.318? ?? ???闪点℃? ?? ???286 c, s s3 y/ w9 ^??d2 c蒸气密度（31.5℃） ( T+ ?0 C% h) o# B( g7 C0.0055? ?? ???在空气中的自燃点℃? ?? ???1751 v g! _3 Z+ K* v3 a溶??点 ℃? ?? ???-128? ?? ???偶极距??德拜? ?? ???0.85* s??b0 D# U1 D: V沸??点 ℃? ?? ???31.5? ?? ???蒸发潜热 kcal/mol? ?? ???6.369 ^??F$ l8 y+ K- U6 z% N; {氯含量 ％? ?? ???78.53? ?? ???比热? ?kcal/kg.℃? ?? ???0.23(l)+ a, T |5 I- {- Y, Z0.132（g）, Z4 {$ t4 l* W$ F( F3 X2 C- ?1 {三氯氢硅在空气中的爆炸极7 q8 y( W( ~. h$ r7 o9 R0 H: b/ G限％? ?? ???1.2～90.5? ?? ?? ?? ?? ? - M- m3 |6 M1 k G% P, E N附：四氯化硅的性质! r5 h% j* o??w1 ?4 g四氯化硅（SiCl4）是无色透明、无极性、易挥发、有强烈刺激性的液体。水解后生成二氧化硅和氯化氢。可与苯、乙醚、氯仿及挥发油混合；与醇反应生成硅酸酯。因其易水解，并生成氯化氢，故它具有强腐蚀性。 p |: [* g. m3 C9 H表3-2 四氯化硅的性质 f N: e2 x??J4 J名称? ?? ???数值? ?? ???名称? ?? ???数值+ X/ V( ~; B* B1 \% u. |分子量? ?? ???169.2? ?? ???蒸发热??kcal/mol? ?? ???6.96* Z% |: j: F! }+ @; a4 H. x液体密度(在25℃)t/msup3;? ?? ???1.49? ?? ???生成热??kcal/mol? ?? ???-153.0: C9 q3 b/ o??u7 C( X蒸气密度 kg/msup3;? ?? ???6.3? ?? ???标准生成自由能 kcal/mol? ?? ???136.9* K0 t0 Z; H/ U7 J- V熔点 ℃? ?? ???-70? ?? ???临界温度 ℃? ?? ???2065 `6 f- j# e) [/ K/ t! v沸点 ℃? ?? ???57.6? ?? ?? ?? ?? ? ) O+ D5 t9 E* _) U v第二节 三氯氢硅合成反应原理3 p+ A0 T t- R