ag薄膜表粗糙度的研究.pdfVIP

摘要 1lUllIIII JillIllI II]111]lUI Ag薄膜的表面粗糙度研究 471 Y2781 凝聚态物理专业 研究生 宫云志 指导教师 李玲陈卫东 摘要：Ag薄膜由于其优良的光电性质及广泛的应用前景而备受科研工作者的 关注。近几年，纳米金属Ag材料的表面等离子体激元(SPP)由于其独特的光学特 性，更是成为了当前的重要研究课题。 传统的光学成像因受衍射极限的存在的限制，导致光学成像分辨率最大只能 达到入射光波长的二分之一。为了突破衍射极限从而实现超衍射光学成像，国内 外科研工作者提出了超透镜器件来实现这一目标。而作为超透镜器件重要组成部 分的Ag薄膜也成为众多学者研究的对象。实现超透镜器件，需要解决好几项关 键技术，透镜器件重要组成部分的Ag薄膜表面粗糙度就是其中之一。本文以此 为研究对象，研究制备工艺对Ag膜表面粗糙度的影响及理论模拟Ag膜表面粗糙 度对透镜器件成像的影响。 研究的主要内容和结果如下： 1．运用理论仿真模拟软件，研究Ag膜表面粗糙度在超透镜器件中的作用和影 响。发现随着银层的粗糙度的增加，成像质量的对比度逐渐降低；当RMS等 于零(理想情况)时，其成像质量的对比度为0．93，当RMS增加到2．6rim时， 成像质量的对比度降到0．6。 2．采用蒸发法和磁控溅射两种方法制备了Ag薄膜，系统研究了Ag薄膜的表面形 貌性质。为改进超透镜器件中Ag薄膜表面粗糙度提供了依据。 3．研究在磁控溅射制备的Ag膜，溅射功率和溅射压强对Ag膜沉积速率和表面 粗糙度影响。发现用磁控溅射方法改变工艺参数，RMS可从5．0nm减小到1．1 nm。在相同溅射功率下，溅射气压从1．0Pa升到3．0 Pa，Ag膜沉积速率和表 面粗糙度随溅射气压增大呈减小趋势。 4．研究在电阻蒸发条件下，加入Cu种子层对Ag膜表面粗糙度、粒径大小和Sk 和Ku等参数的影响。 关键词：磁控溅射电阻蒸发表面粗糙度种子 万方数据 Abstract The ofsurface of thinmms study roughnessAg matter physics Major：Condensed Yun—zhi Ling，ChenWei-dong Postgraduate：GongSupervisor：Li becauseofitsexcellent thinfilmhasattractedresearchers photoelectric Abstract：Ag and ofextensiveattention．Inrecent metal prospect years，nano propertiesapplication materialsurface tothei