氮化硅薄膜多层膜的光性能研究.pdfVIP

IIll[tI ill l IIIIIllII IIl 摘要 氮化硅薄膜及多层膜的光性能研究 凝聚态物理专业 研究生何贤模 指导教师徐明 摘要硅由于性能优异且技术成熟，已经成为了电子工业中最 重要的半导体材料，并广泛应用于各个领域。以它们为基础研发 的器件已经进入并改善着人们的生活。多孔硅的可见光光致发 光，彻底激发了研究者探索高效硅基发光材料的兴趣。作为一个 在电子和光电器件方面很有发展潜力的材料，氮化硅表现出良好 的化学稳定性、高温热稳定性、抗热震性、电绝缘性和硬质性。 此外，氮化硅在太阳能电池表面钝化及减反材料方面也有广泛的r 应用。氮化硅因其优良的特性而得到广泛应用，目前不少学者对 该材料进行了细致而深入的研究，特别是对于SiNx体系纳米薄膜 的制备及其光学性质的研究已取得不少有意义的结果。目前，对 于SiNx薄膜的一些物理特性和机制还未完全认清，因此对其还有 大量的研究工作需要进行。本论文主要包括以下两个方面工作： 1、研究不同N含量