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DMD用于数字光刻成像研究 光学专业 研究生刘驰 指导教师杜惊雷 信息时代对器件的微型化、轻量化、集成化的迫切需求，极大地推动了微 细加工技术的发展，以微光学、微电子、微机械为基础的MEMS和MOEMS技术已 在航空航天、光纤通信、光互联、光计算等高科技诸多领域展现出十分广阔的 应用前景，将对本世纪的军事、工业生产、以及人们的生活产生深远影响。源 f二VI。ST的平面光刻工艺用于制作微光学、MEMS、MOEMS器件的三维连续面型受 到很大的局限。本文研究--}ee可制作微光学元件的DMD数字掩模光刻技术，应 用数字化DMD显示器件建立数字光刻实验装置。根据DMD的周期结构的特点并 考虑实际光刻系统的结构，建立一个可描述数字光刻成像过程的特殊的部分相 二卜成像模型，并丌展了数字灰度光刻制作微光学元件的实验研究。 论文中．分析研究DMD狄阶的产生方式。根据建立的基于DMD部分相干成 像模型，对DMD单个微镜点成像，采用相干成像处理，对DMD阵列面成像采用 非相干像强度叠加处理，并以数字光刻微透镜为例。进行计算模拟和分析。最 后研究用数字光刻和生化酶化学湿法刻蚀卤化银明胶制作连续浮雕微光学元件 ：[岂．实验制