hlt;2gt;clt;,2gt;hlt;,2gt;系统电子助进热丝化学气相沉积动力学过程研究.pdfVIP

摘 要 本工作采用蒙特卡罗方法，首次对以H：／0H。为源气体合成金刚石薄膜的 研究了氢原子的产生及其空间分布随实验条件的变化。给出了气体温度取平均温 (2)研究了低温淀积金刚石的生长机制，提出了金刚石生长所需的基片温度和基 片表面上含碳粒子能量的关系．并且指出：如果要获得高质量的金刚石薄膜，除了 含碳物种具有沿着基片表面扩散的能力外，还要求有大量的氢原子存在；(3)提 过程中．实时监测电子平均能量具有重要的意义．进而可以有效地控制工艺条件． 合成金刚石薄膜中实验参数的选择及低温下台成高质量金刚石薄膜具有重要的意 义；同时，对于直流电场中电子群运动的研究也具有重要的参考价值。 关键词： 化学气相沉积 蒙特卡罗模拟漂移速度 氢分解 氢原子发射谱线 电子平均能量 0．．_。———．．．．．．．．．．．．．．．．．-．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．—．．—一——．， i n“ 一 Absn-act Abstract Inthis havestudied the electron paper,we assistedchemical vapor ●k。■ of diamondfilmsforthe first time Monte (EACVD)process by Carlo ；，㈠r。，户 using And and mixtureisselectedassource hydrogenacetylene model gases．Theof gas is here．Themain results dynamics wehave suggested obtainedhere suggestedthat：(1) The ofatomic andthe with production hydrogen distributi