离子液体电积铝、铝合金及耐蚀性研究.pdfVIP

坠曼乜Q墨i垒Q坠Q!△!塑卫照△!塑!!QY!＆磐 Ionic andTheirCorrosionBehavior ．．．． Liquid ㈨7， ㈣4眦7㈨8㈣9㈨5 ⑧ 洲Y㈣Z Author’S signature： Supervisor’Ssignature： ExtemalReviewers．圣}!垒堕 Committee Examining Chairperson： CommitteeMembers： Examining 盗笠i蚕 万方数据 摘要 摘要 铝合金层(尤其AI．Mn合金)具有优良的耐腐蚀性能、较高的硬度、美观 的镜面和光亮的外表，可直接用于仪器等外装涂饰，被认为是一种有广阔的应用 前景和开发潜力的涂层体系，其中离子液体因具有熔点低、电导率高、无蒸汽压、 电化学窗口宽、热稳定性好、环境友好等特点，而备受关注，因此离子液体中电 沉积铝合金层成为近年来的研究热点。本文主要研究了：采用AICI，．EMIC(氯化 铝锰合金镀层，并对比研究了不同镀层的腐蚀行为；采用A1C11．ZnCh．EMIC离 子液体在碳钢基体上制备了铝锌合金镀层。 结果表明，在20≠f钢表面成功地制备出了与基体结合良好、致密的AI．Mn合 得到非晶和晶态的混合结构，锰含量为7．1at％(记为A1．Mn．L)，沉积颗粒较大； 在MnClz含量为0．10mol／L的离子液体中，得到完全非晶态的AI．Mn合金镀层， 的铝镀层及A1一Mn合佥镀层均显示了比20捍钢基体低的自腐蚀电流密度，而 A1．Mn合金镀层的耐蚀性明显优于铝镀层。与AI．Mn—L合金镀层相比，AI．Mn．H 镀层的自腐蚀电位较正，同时其自腐蚀电流密度显著降低。 研究A1．Zn合金镀层时：在电压为0．24V时电流开始逐渐增大，此时Zn开 始沉积，当电压达到一0．1V时Al、Zn开始共沉积。沉积电压为．0．3V时，可以得 到镀层颗粒大小约l一2岬的均匀的、附着性较好的镀层，但是镀层为灰色，不 离子液体中分别添加一定量的香草醛、EDTA、酒石酸、尼克酸和柠檬酸进行研 究，仍然没有得到光亮的镀层，但是镀层颗粒有有所减小。 关键词：离子液体；EMIC；电沉积；AI；AI．Mn；A1一Zn；合金；腐蚀性 万方数据 Abslract Abstract ofaluminum A1一Mn the of alloy)hasadvantagegood Coating alloy(especially and is asa regarded hardness，goodlookingbrightness，which anti．corrosion，high in near Ionic isconcerned kindof the future．Nowadaysliq