钛微弧氧化的制备及其生长特性研究.pdfVIP

摘要 由于微弧氧化是一个多种因素控制的复杂过程，不同工艺参数所制备的氧化 膜特性有很大区别，而且其理论和实验的研究还不全面、不充分。因此，要进一 步掌握微弧氧化机理和制备高品质微弧氧化膜的工艺，还需要更深入的研究各种 因素对微弧氧化膜生长特性的影响。 从这一目的出发，本文利用实验室自制多功能微弧氧化电源制备了钛的微弧 氧化膜样品，并利用光学显微镜、扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)仪 研究了氧化膜的厚度、微观结构和相组成。通过分析实验现象和测试结果，研究 了基本工艺参数对钛微弧氧化膜生长特性的影响。 本论文的研究主要分为以下三个部分： 第一部分，采用恒定电压的控制方式分别制备了不同处理时间和电压的钛微 弧氧化膜样品。研究了处理时间和电压对钛微弧氧化膜生长特性的影响。结果发 现，处理时问和电压对钛微弧氧化膜的生长特性有重要影响：(1)不同处理时间 下制备的钛微弧氧化膜，随着处理时间的延长，氧化膜的厚度不断增加，而生长 速率先增加后减小，表面粗糙度和微孔尺寸逐渐增大，而微孔密度逐渐减小。膜 层主要由锐钛矿和金红石相Ti02组成，随着处理时间的增加，膜层中锐钛矿相 Ti02逐渐减少，而金红石相Ti02则逐渐增加。(2)不同电压下制备的钛微弧氧 化膜，随着电压的增加，氧化膜的生长速率先增加后减小，表面粗糙度和