《CF_4射频等离子体对硅橡胶绝缘子表面的疏水改性》.pdfVIP

第 29卷第 8期 高分子材料科学与工程 VO1．29．No．8 2013年 8月 POLYMERM ATERIALSSCIENCEAND ENGINEERING Aug2013 CF4射频等离子体对硅橡胶绝缘子表面的疏水改性 高松华 ，周克省2 (1．三 明学院机 电工程学院功能材料研究室，福建 三明365004；2．中南大学物理与电子学院，湖南 长沙 410083) 摘要：采用C 射频感性和容性 2种耦舍等 离子体分别对绝缘用硅橡胶试样表面进行疏水改性。利用原子力显微镜 (AFM)和X射线光 电子能谱 (XPS)分析试样表面微观形貌和表面化学成分变化，采用静态接触角表征试样表面润湿性 的变化。结果表明，2种处理工艺相 比，容性耦合等离子体工艺处理后试样表面的Si—F与C—F物质的量 比与表 面粗糙 度的增加量都大于感性耦合等离子体工艺处理试样；C 射频等 离子体对硅橡胶试样表面处理过程 中，氟化、剥离和刻 蚀的作用同时存在且互相竞争，致使在试样表面引入含氟基团的同时改变了试样的表面微观形貌；试样表面含氟基团的 引入和表面粗糙度的增加之间的协同作用是改性后硅橡胶表面的疏水性能得到大幅提高的主要原因。 关键词 ：CF4射频等离子体；硅橡胶绝缘子；表面；疏水改性；原子力显微镜；X射线光 电子能谱 中图分类号：TQ333．93 文献标识码 ：A 文章编号：1000．7555(2013)08．0101．04 硅橡胶绝缘子具有耐臭氧、免维护及憎水迁移性 箱常温保存之前 ，先后经丙酮 、乙醇和去离子水超声清 等优 点-1．2J，但 硅 橡 胶 易变 形 ，常 添 加 sio2和 洗各 10min后 ，再放人烘干箱 60℃干燥 3h。 A12O ·3H2O作为阻燃剂和增强剂 ，然而这 2种填料不 1．2 实验设备 仅降低了其表面疏水性能，且在重潮湿天气时，污层 电 实验设备为大连理工大学表面工程研究室设计的 导增大 ，绝缘性能下降，致使污闪事故的发生。为了提 PEPP一300型等离子体刻蚀 ／聚合复合加工系统 ，装置 高硅橡胶绝缘子服役寿命 ，提高硅橡胶绝缘子表面疏 主要包括真空系统、等离子体诊断系统 、复合射频源系 水性能是一项重要手段L3J。 统、刻蚀 ／聚合加工室 4部分。 1．3 实验方法 聚合物表面改性的有效方法之一就是低温等离子 体处理 4【,5J。尤其是 CF4等离子体处理 ，具有温和的 在反应室样品台上放人硅橡胶试样 ，启动真空抽 气系统抽至本底真空为 2×10 Pa，打开进气 阀通人 刻蚀作用和强的氟化特性[．7]。本文分别采用 CF4射 CF4气体 ，利用气体流量计控制 CF4气体流量为 20 频容性耦合等离子体 (CCP)与感性耦合等离子体 (ICP)处理工艺对硅橡胶表面进行处理 ，通过原子力 mL／min，保持反应室气压稳定于 10Pa左右2min。启 显微镜 (AFM)、x射线光电子能谱 (XPS)和静态接触 动射频电源按预设 的时间和功率进行等离子处理 ，处 角 (SCA)测试技术 ，对处理前后硅橡胶试样 的表面形 理结束后关闭射频电源 ，通人空气使反应室气压升至 貌、表面化学组成和疏水接触角进行 了表征和分析 ，讨 常压。打开反应室取出试样并放人干燥箱常温保存。 论了改性后硅橡胶表面疏水性能得到明显改善 的原 1．4 样 品测试 等离子体处理试样在干燥箱存放 1周后分别进行 因。 AF