掺杂化学修饰电极及研究进展.pdfVIP

第30卷第4期 淮北煤炭师范学院学报(自然科学版) V01．30No．4 2009年12月 JournalofHuaibeiCoal Teachers Industry College(Natural 掺杂化学修饰电极的研究进展 姚 雪，孙登明 (淮北煤炭师范学院化学与材料科学学院，安徽淮北235000) 摘 要：文章从掺杂化学修饰电极的制备方法、掺杂聚合物薄膜修饰电极和掺杂无机物薄膜修饰电极的应用等方面 取得的进展及发展趋势进行综述和展望． 关键词：掺杂；化学修饰电极；综述 中图分类号：O657．1 文献标识码：A 文章编号：1672—7177(2009)04一0024一09 化学修饰电极是上世纪70年代发展起来的一类电化学和电分析化学新方法，由于化学修饰电极可以 人为控制电极表面的结构和功能，使化学修饰电极成为当前电化学和电分析化学十分活跃的研究领域．化 学修饰电极对基体电极的修饰先后经历了吸附法、共价键合法、滴涂法、聚合法、电沉积法等¨1．修饰电极改 进原有的只是单纯的基体电极的电化学效果，但有些方法存在电活性中心单一，灵敏度低，充电电流大等缺 陷，近年来，随着在化学修饰电极制备过程中进行物质的掺杂，共聚，包埋等，使化学修饰电极的稳定性、电 催化活性、灵敏度、选择性和光洁度等性能大大改进，使其在化学，生物，医学，药学等相关领域中的应用越 来越受到重视．本文将掺杂化学修饰电极的应用进展作一综述．本综述分别从化学修饰电极中物质掺杂的 方法，掺杂在聚合物薄膜化学修饰电极中的应用，在无机物薄膜化学修饰电极中的应用以及掺杂在碳糊化 学修饰电极中的应用四个方面着手评述掺杂化学修饰电极在目前电分析化学领域中取得的成就及其发展 趋势． 1．≯化学修饰电极中物质掺杂的方法 掺杂的修饰电极是在修饰剂中加入功能分子，通过各种方法把这些功能分子掺杂在修饰膜中，从而改 善修饰膜的稳定性，可逆性，进而得到高催化效能的新修饰电极材料．掺杂过程一般是在对基体电极的修饰 过程中加人某种掺杂剂实现的．常用的掺杂方法是掺杂物和修饰剂共聚，掺杂剂可以调节修饰电极的电导 率，电位和电流，也可在聚合修饰时包埋一些带相反电荷的生物催化剂形成带电荷的聚合物，其掺杂和聚合 过程一步完成，所得修饰电极膜均匀，稳定，重现性好．改变聚合条件便可得到不同结构、不同性质的修饰电 极膜tz一1．掺杂的方法很多，有电化学沉积法，化学气相沉积法t5。、电弧放电法M1、热解法【7J、声化学方法¨1等． 张敏等㈥用电化学沉积法制备了稀土铕离子掺杂的类普鲁士蓝化学修饰电极，在KCI溶液中研究该修饰电 极的循环伏安行为，讨论类普鲁士蓝修饰膜的氧化还原过程，并用阳极溶出伏安法测定奶制品中的锌含量， 该方法测锌的灵敏度高，阳极峰电流重现性好．其制备方法是将处理好的玻碳电极为工作电极，放入Eu3+和 K。Fe(CN)。的盐酸混合液中，在电位一0．8，一1．0V区间内循环扫描，即可在电极表面形成一层均匀的掺 杂铕离子的蓝色聚合物薄膜。 常用的掺杂方法还有脉冲激光沉积法lJol，炭糊法…1，共沉淀法¨¨．余丹梅等n21将铜以共沉淀方式掺杂 到用微乳液法合成的纳米氢氧化镍中，并通过x射线衍射、透射电镜和循环伏安法，研究铜对纳米氢氧化镍 结构和电化学性能的影响．SUY等‘”I用阳极电镀法制备Si掺杂的二氧化钛化学修饰电极，并用化学气相沉 积法对硅进行了相应的处理，与未掺杂Si的二氧化钛修饰电极相比，此掺杂修饰电极在高强度的汞灯照射 收稿日期：2009—03—23 (KJ2008887ZC) 作者简介：姚雪(1986一)。女，山东聊城人，硕士研究生．通讯作者：孙髓明． 万方数据 第4期 姚雪等：掺杂化学修饰电极的研究进展 25 下表现出对五氯酚降解更好的性能．傅崇刚等¨引在原有的普鲁士蓝(PB)粉末的基础上，用固体石蜡作为粘 合剂，将已经过充分研磨好的PB粉和石墨粉按照一定的比例混合均匀，制得了掺杂PB的碳糊电极 Y (PBCPE)．此电极化学稳定性及其