流体二维振动超滑表面加工振动场分析与实验研究.pdfVIP

摘要 摘 要 随着光学与微电子学等技术的不断发展，对其中关键零件表面精度的要求越 来越高。近年来集成电路的规模越来越大，其所用芯片的特征尺寸越来越小．为 保证后续加工的质量，对表面精度的要求是非常严格的。而现代短波光学和强光光 学系统，对器件表面精度的要求则更为苛刻，不仅要求表面粗糙度低，而且对表 面损伤程度也有严格的要求。在另外的一些技术领域，如高密度磁记录器件和光 记录器件等的制造方面，也存在着对超光滑表面的需求。 本文针对超光滑表而的需求，提出了一种基于流体二维振动的超光滑表面加 工方法。该抛光方法采用流体为抛光工具，在水平方向和垂直方向附加二维高频 振动作为抛光作用力，使流体分子或微细磨料粒子能以一定的速度不断冲击：[件 表面，利用抛光液与工件之间的物理一化学作用完成材料去除，从而获得超光滑表 面。论文基于该原理，对实验装置进行了设计，并通过有限元模念分析方法分析 了装置的固有频率和模态振型。本文还对装置进行了有限元谐响应分析，找出在 激振器的作用F抛光槽的响应状态，找出了响应比较好，振动状态平稳的频率段。 通过实验发现不同的流场状态以及工件的安装方式对抛光表面质量有着重