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混合稀土cu-l合金薄板内氧化制备弥散铜ic框架材料研究
摘 要
论文题目:混合稀土 Cu-Al 合金薄板内氧化制备弥散铜 IC 框架材料
研究
专 业:材料学
研 究 生:杨争
指导教师:田保红 教授
摘 要
Al O 弥散强化铜基复合材料不仅具有良好的导电性、导热性,高的室温强
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度,而且高温强度同样优越,广泛用于引线框架、电真空器件和电阻焊电极等。
在众多制备方法中,用内氧化法制备的Al O 弥散强化铜复合材料性能良好,但
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目前尚存在工艺复杂、生产周期长、成本昂贵等问题。
本文采用以工业氮气中的余氧作为内氧化介质将 Cu-Al 合金和 Cu-Al-RE 合
金在管式炉中直接进行内氧化,工艺过程简单。本文研究了温度、时间及混合稀
土(Ce+Y)对 Cu-Al 合金内氧化动力学的影响;研究了内氧化法制备的 Cu-Al2O3
和 Cu-Al O /(Ce+Y) 复合材料的导电率、显微硬度、抗拉强度和并进行了显微组
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织观察,分析了(Ce+Y)对复合材料性能和显微组织的影响;并研究了 Cu-Al O
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和 Cu-Al O /(Ce+Y) 复合材料显微硬度随退火温度的变化规律,及导电率、显微
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硬度和抗拉强度随变形量的变化关系,揭示了 Al O 弥散强化铜复合材料的高温
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软化和再结晶行为,为该类复合材料的制备和广泛应用提供依据。
结果表明:在相同的内氧化温度条件下,添加稀土的 Cu-Al 合金内氧化层厚
度明显比未添加的内氧化层厚度大,表现出明显的催渗效果,其中 Cu-Al-
0.1(Ce+Y)薄板在 950ºC×2h 内氧化的氧化层厚度为363μm ,比未添加的 Cu-Al 内
氧化层厚度增加了 60% ;内氧化成功制备了 Cu-Al O /RE 复合材料,HREM 和
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TEM 分析和计算表明,经内氧化制备的 Cu-Al O /RE 复合材料在基体上生成了
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弥散分布的细小的 γ-Al2O3 颗粒,颗粒粒径约为 5nm~10nm ,颗粒间距约为
10nm~30nm,在晶内和晶界弥散分布,与基体保持完全共格或半共格关系;适
量稀土元素(Ce+Y) 的加入提高了 Cu-Al2O3 复合材料的显微硬度和抗拉强度和软
化温度。Cu-Al O /0.05(Ce+Y) 复合材料的软化温度比未添加稀土(Ce+Y) 的 Cu-
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Al2O3 复合材料的软化温度提高了 100ºC,达到 800ºC 。变形量和混合稀土比例
对 Cu-Al O 和 Cu-Al O /(Ce+Y)复合材料的软化温度和再结晶温度影响不大;冷
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轧变形使 Cu-Al2O3 复合材料的显微硬度和抗拉强度得到了大幅度提高,且随着
变形量的增加而增加。经 950ºC×2h 内氧化制备的 Cu-Al O 复合材料经 80%冷变
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I
摘要
形后,显微硬度和抗拉强度分别增加了 45HV 和 168
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