cuitoag层薄膜的制备、微结构及光电性质表征.pdfVIP

摘要 川|I{|1I|{ll|llllⅧ…㈣{111{I|lI{{lII 摘要 Y2113502 透反射式高电导薄膜是液晶显示器领域重要的电极材料，开发出新型透反 射式高电导薄膜已经成为液晶显示器领域中不可或缺的技术。利用高反射、高 电导的金属Ag、Cu和透明导电氧化物ITO多层复合可以制备出性能优异的透 反射式高电导薄膜Cu／ITO／Ag，因此研究C们T0／Ag多层薄膜将具有重要的研 究意义和实用价值。 采用直流磁控溅射在室温条件下分别制备出厚度为5．4、10．7和16．1lⅡn的 M1 8XHF型全自动转靶X射线衍射 Cu膜和厚度为10啪的Ag膜。采用MAC 仪测试了Cu膜和Ag膜的x射线衍射谱；利用S．4800型扫描电子显微镜测量 的表面粗糙度；通过UV-2550型紫外．可见分光光度计分别测量了Cu膜和Ag 膜的透射、反射和吸收光谱；通过RTS．9数字四探针测量了Cu膜和、Ag膜的方 阻。 然后在Cu膜的基础上采用射频磁控溅射制备出Cu／ITO薄膜，其中ITO薄 膜厚度为144Ilnl。由X射线衍射仪测试了ITO薄膜及C们TO薄膜的Ⅺm谱线； 通过SEM测试了ITO薄膜及C肌TO薄膜的表面形貌；通过三维轮廓仪测试了 薄膜的表面粗糙度，通过紫外一可见分光光度计分别测试了薄膜样品的透射、反 射和吸收光谱，通过四探针测量了Cu／ITO及ITO膜层的方阻。研究了IT0薄 膜结构、表面形貌、表面粗糙度和光电性能随着Cu层厚度变化的关系。 其次在Cu／ITO薄膜的基础上再镀一层lOfuIl的Ag薄膜，形成最终的 表面形貌、表面粗糙度及光电性能。研究了多层薄膜微结构、表面形貌、表面 粗糙度和光电性能随着Cu膜厚度变化的关系。 最后通过磁控溅射制备出A∥ITO／Cu薄膜，并将C们TO／Ag薄膜和 A∥IT0／Cu薄膜光学性能进行了对比。并以效能因子和分光比为基础评价多层 透反射式导电薄膜的品质。 结果表明：Cu膜为非晶结构，Ag膜出现微弱的(111)峰。Cu薄膜的表 面粗糙度随着Cu膜厚的增加而增加，Cu膜和Ag膜的表面粗糙度都与膜厚接 近，主要是由于Cu薄膜和Ag薄膜均为非连续状态，与SEM的结果一致。C们TO cu／I丁D／Ag多层薄膜的制各、微结构及光I乜性质表征 双层薄膜及C伽TO／Ag三层薄膜的光学性能都受到了Cu薄膜厚度的影响，透 射随着底层Cu膜厚度的增加而下降，吸收增加，反射谱线呈现波动，在Cu薄 膜厚度为16．1m时，反射性能表现最强。另外C们T0／Ag三层薄膜比Cu仃TO 双层薄膜的透射要低，反射和吸收均有所增加，这主要是由于薄膜总厚度的增 加以及Ag具有高反射、高吸收性能。A∥ITO／Cu薄膜的光学性能和Cu／ITO／Ag 薄膜的光学性能对比表明：薄膜的吸收系数与反射率基本一致，A∥ITO／Cu薄 膜透射明显增加，主要是由于表面层的结构不一样导致，表明可以将Ag层放 在靠近外部光源的一边，这样可以使得薄膜对背光源的透射率达到最大值。 本文的创新点： 1．采用磁控溅射分别制备Cu膜、Ag膜和C们T0薄膜，研究了cu底层、 Ag表层、C们TO薄膜的结构及光电性能。 2．采用直流和射频磁控溅射制备多层C矾T0／Ag和A∥IT0／cu薄膜，研 究多层薄膜的结构和性能随着底层Cu膜的厚度变化的关系，从Cu层的结构和 表面粗糙度来分析三层c们TO／Ag薄膜的结构和光电性能。并将C“ITO／Ag薄 膜与Ag／IT0／Cu薄膜的光学性能进行了对比。 3．利用效能因子和分光比来共同评价C们TO／Ag多层薄膜的品质因素，并 最终得出结论：Cu／ITo／Ag薄膜可以作为新型透反射式高电导薄膜应用于未来 的显示器领域。 关键词： C们TO／Ag多层薄膜；微结构；光学性能；电学性能 Abst嘣 Abstract TmsnectiVefilmisoneofthemost