o#39;-ialon复相陶瓷物相控制及性能的研究.pdfVIP

摘要 本文采用原位合成技术制备了O’．Sialon复相陶瓷材料，通过调整配方、优 化工艺来控制物相的组成，探索烧结后物相的变化，并查找物相与性能的关系， 从而找到一条物相可控的材料制备工艺。实验中采用XRD分析了材料的物相组 成，并计算了各相含量；使用SEM观察样品微观结构和晶粒形貌；研究了此种 陶瓷材料物相组成、微观结构及性能之间的关系。 以Si3N4、Si02与值．A1203为主要原料，在1420oC制得气孔率在28．98-44．02％ 的O’．Sialon复相陶瓷，抗弯强度范围为93．5MPa-164．14MPa，介电常数在 3．3986-4．6034之间。O’．Sialon(Si241xOJhN2。；0xS_0．3)多为板状或块状，当 设计x值为0．1时，薄的板条状晶粒比较多，而当X值增大到O．3时，则以宽厚 的板状O-Sialon晶粒为主。通过晶胞修正及非线性拟合方法，计算了实际固溶 a．A1203的含量，并分析了伐．A1203的作用：(1)0【．A1203作为烧结助剂形成液相， 当样品中a．A1203的含量为10．42％时，几乎得到了单相O’．Sialon，其含量达到 98．88％。提高烧结温度，O’．Sialon相含量逐渐增多，晶粒不断长大，当烧结温 度达到1460oC时，样品中O-Sialon相含量达到98．85％，同样几乎制备了接近 单相的O’一Sialon。 调整原料中Si02的质量百分含量，在1420 相陶瓷。当Si02含量为5．59 wt．％，O’与p两相含量相当，样品的体积密度和抗 弯强度分别为2．3516 MPa，样品体积密度随着Si02的百分比含量 g．cm-3、215．69 的减少而逐渐增大。提高烧结温度对致密度和性能的影响符合一般规律，但是单 纯提高烧结温度，并不一定能促进Sialon相的生成，进而优化样品的物相组成。 寸效应、表面效应，体系中大量的界面为原子提供了短程扩散途径，因此有较高 的扩散速率，加速材料反应；Si粉的高活性对反应也有很人的积极作用。此外， 升高温度有利于fI-Sialon相的生成。 关键词：O，．Sialon复相陶瓷原位合成物相控制晶胞修正溶胶．凝胶法 ABSTRACT O’一Sialon ceramicshavebeenfabricatedbvinsitu multiphase synthesis was to the in technology．It after andsearch designedexplorechangesphase sintering the between and the relationshipphasepropertiesby formulaand adjusting optimizing astofinda materials sinteringprocess，SO phase—controlled preparationprocess．The andmicrostructurewere XRDand crystallinephase investigatedby SEM， respectively．The and relationshipamongphasecomposition，microstructure were propertiesinvestgated．