薄膜制备技术(蒸镀)..pptVIP

加速电子 使电子束扫描运动 使电子收束 产生电子 使电子产生e型偏转 电子枪原理示意图 脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。 定义 早于1916年，爱因斯坦（Albert Einstein）已提出受激发射作用的假设。可是，首部以红宝石棒为产生激光媒介的激光器，却要到1960年，才由梅曼（Theodore H. Maiman）在休斯实验研究所建造出来。总共相隔了44年。使用激光来熔化物料的历史，要追溯到1962年，布里奇（Breech）与克罗斯（Cross）利用红宝石激光器，汽化与激发固体表面的原子。三年后，史密斯（Smith）与特纳（Turner）利用红宝石激光器沉积薄膜，视为脉冲激光沉积技术发展的源头。 历史背景 3、激光蒸发装置 不过，脉冲激光沉积的发展与探究，处处受制。事实上，当时的激光科技还未成熟，可以得到的激光种类有限；输出的激光既不稳定，重复频率亦太低，使任何实际的膜生成过程均不能付诸实行。因此，PLD在薄膜制作的发展比其它技术落后。以分子束外延（MBE）为例，制造出来的薄膜质量就优良得多。 往后十年，由于激光科技的急速发展，提升了PLD的竞争能力。与早前的红宝石激光器相比，当时的激光有较高的重复频率，使薄膜制作得以实现。随后，可靠的电子Q开关激光（electronic Q-switches lasers）面世，能够产生极短的激光脉冲。因此，PLD能够用来做到将靶一致蒸发，并沉积出化学计量薄膜。由于紫外线辐射，薄膜受吸收的深度较浅，之后发展起来的高效谐波激光器（harmonic generator）与准分子激光器（excimer）甚至可产生出强烈的紫外线辐射，自此以后，以非热能激光熔化靶物质变得极为有效。 发展历程 　　自1987年成功制作高温超导膜开始，用作膜制造技术的脉冲激光沉积获得普遍赞誉，并吸引了广泛的注意。过去十年，脉冲激光沉积已用来制作具备外延特性的晶体薄膜。陶瓷氧化物（ceramic oxide）、氮化物膜（nitride films）、金属多层膜（metallic multilayers），以及各种超晶格（superlattices）都可以用PLD来制作。近来亦有报告指出，利用PLD可合成纳米管（nanotubes）、纳米粉末（nanopowders），以及量子点（quantum dots）。 PLD机制 PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后的膜生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段： 　　1. 激光辐射与靶的相互作用 　　2. 熔化物质的动态 　　3. 熔化物质在基片的沉积 　　4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成 PLD主要优点 　1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 　　2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低； 　　3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 　　4. 具有极大的兼容性，发展潜力巨大 ； 　　5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。 PLD的主要缺点 1，也容易产生微小颗粒的飞溅，小颗粒：0.1~10?m，影响薄膜的质量。 2，薄膜不够均匀，大面积均匀性困难，熔蒸羽辉的定向性造成的 尽可能避免热效应：激光波长越短，越容易实现“冷加工”，所以193nm,248nm的准分子激光器和266nm,355nm的高次谐波ND:YAG固态激光器为客户所常用 大能量，短脉冲创造超过靶材的阈值的功率密度 比较高的重复频率，提升溅射速度。 激光器使用简单，寿命长，易于维护（这一点Nd:YAG固态激光器要好于准分子激光器） 脉冲激光沉积对激光器的要求有： 实验参数优化是制备优质薄膜的关键，其主要工艺参数有 激光波长 激光能量强度 激光脉冲重复频率 衬底温度 气氛种类 真空度 离子束辅助电压电流 靶-基间距 薄膜与基片材料晶格是否匹配 基片抛光清洁程度 增加薄膜表面光滑度的方法： 1、粒子束放电辅助，可以筛分沉积到基片的粒子取向，增加薄膜表面光滑度 2、采用合适大小的激光能量强度 3、采用合适的靶-基间距 4、基片旋转 5、靶-基间增加能够过滤慢速大质量粒子的斩波器 （1）激光与固体表面作用生成等离子体过程； （2）等离子体向基片方向的定向局域等温绝热膨胀发射： 靶表面等离子体区形成后，这些等离子体继