大理石稀土抛光粉-副本.pptVIP

题目：大理石稀土抛光粉 学号： 200802198 姓名： 尹雪岭 导师： 李梅 学院： 材冶学院 日期： 2009.12. 大理石稀土抛光粉 研究背景 研究现状 研究目的和意义 研究方案 研究进度 研究背景 我国稀土储量为9300万吨（工业储量约为1800万吨 ），占世界总储量21000万吨的44.29% 。进入21世纪以来, 随着钕铁硼材料突飞猛进的发展, 造成铈产品大量的积压, 因此应该大力开展铈产品的应用研究工作。 研究背景 我国虽然已经有三大级别（高中低铈稀土抛光粉），11种牌号，18个规格的稀土抛光粉，但是和国外（30种牌号，50个规格）相比我们依然有很大的差距，尤其稀土抛光粉在大理石抛光中应用较少。因此我们必须研发更多的稀土抛光粉种类和规格，提高技术含量和产品质量，为我国提供更多的选择，减少对精密抛光粉对外依赖度。 研究现状 稀土抛光粉的原料 稀土抛光粉的分类 稀土抛光粉的抛光机理 稀土抛光粉的应用领域 稀土抛光粉的制备工艺 稀土抛光粉的原料 1.氧化铈(CeO2) 2.混合稀土氢氧化物[RE(OH)3] 3.混合氯化稀土(RECl3)和高品位稀土精矿 (REO 60% CeO2 48%) 按含铈量分三类： 1.高级铈系稀土抛光粉 （REO 99% ，CeO299% ） 2.中级铈系稀土抛光粉 （REO 90% ，CeO280~85% ） 3.低级铈系稀土抛光粉 （REO 45% ，CeO248% ） 根据其应用领域的不同分为： 微米级： 1~100μm， Ce含量40-80% 亚微米级：100nm~1μm，Ce含量40-80% 纳米级： 1~100nm， Ce含量99% 铈基抛光粉的抛光机理 (1)化学学说，即抛光过程是水、抛光剂、抛光模材料和玻璃之间化学作用的结果； (2)纯机械作用学说，即抛光是研磨过程的继续； (3)流变作用学说，即摩檫热使玻璃表面产生塑性变形和流动，或者是热软化以致熔融而产生流动，抛光过程是玻璃表面分子重新分布而形成平整表面的过程； (4)机械、物理化学学说，即抛光过程是一机械的、物理化学作用的综合过程； 稀土抛光粉的制备工艺 稀土固体原料焙烧法 1 高纯氧化铈焙烧法 高纯氧化铈→高温焙烧→水淬→分级→过滤→烘干 2 氟碳铈精矿焙烧法 氟碳铈矿→粉碎→焙烧→粉碎→分级→加工 3 碳酸稀土焙烧法 见下图 H-500型稀土抛光粉生产工艺流程图 以可溶性盐为原料的沉淀-焙烧法 氨水沉淀-焙烧法 碳酸氢铵沉淀-焙烧法 其他沉淀剂沉淀-焙烧法 （其他沉淀剂如草酸、碳酸钠、硫酸铵等 ） 氨水沉淀-焙烧法 氨水沉淀-焙烧法 以低铈混合氯化稀土为原料 ，得到CeO2含量在80%以上，中心粒径在1.5μm 以下，比表面积在6m2/gl以上的半成品抛光粉，再经粉碎、分级即可得到抛光粉产品。 碳酸氢铵沉淀-焙烧法 以轻稀土氯化物为原料，硅氟酸及碳酸氢铵为沉淀剂得稀土氟碳酸盐沉淀、水洗、过滤、焙烧、球磨、筛分等步骤。 所制得的抛光粉产品颗粒细而均匀、化学活性强、抛光效率高、应用领域广。 其他沉淀剂沉淀-焙烧法 其他沉淀剂如草酸、碳酸钠、硫酸铵等 碳酸氢铵沉淀-焙烧法 以轻稀土氯化物为原料，硅氟酸及碳酸氢铵为沉淀剂得稀土氟碳酸盐沉淀、水洗、过滤、焙烧、球磨、筛分等步骤制得产品。 研究现状 抛光粉的应用领域 稀土抛光粉的应用领域 抛光粉的应用领域： 1.玻璃抛光粉 作为玻璃抛光的有红粉 (Fe2O3)、铈基稀土抛光粉 (CeO2)、氧化锆(ZrO2)三类，其中铈基抛光粉的抛光性能最好，氧化锆居中，红粉最差;光学玻璃包括眼镜片、照相机、摄像机、复印机、望远镜、分析仪器及半导体装置等用的精密透镜 。 抛光粉的应用领域： 2.宝石抛光粉 宝石抛光粉有三氧化二铬(Cr2O3)、铈基稀土抛光粉、高岭土制备的Al-Si尖金石和莫来石抛光粉;大理石抛光粉是一种灰白色超细粉体混合物，主要山α-Al2O3，SnO2和Pb组成 抛光粉的应用领域： 3.大理石抛光粉大理石抛光粉是一种灰白色超细粉体混合物，主要由α-A2O3，SnO2和Pb组成。 稀土抛光粉的应用领域： 阴极射线管玻璃的抛光 光学玻璃的抛光 平板玻璃的抛光 电子、计算机元件的抛光 光掩膜抛光 其他应用领域 阴极射线管玻璃的抛光 我国产的797型、C-Ⅰ型、H-500型和877型抛光粉用于电视机显像管的抛光 光学玻璃的抛光 高铈粉-Ⅰ型和A-8型的高级铈系稀土抛光粉(CeO2 99%，REO99%)主要适合于精密光学镜头制品的高速抛光。 739 型中级铈系稀土抛光粉(CeO2 80%~85%, REO 90%)主要适合于光学仪器的中精度、中小球面的光学镜