《碳化硅反射镜表面粗糙度的优化-论文》.pdfVIP

激兴与光 电字学进展 Laser＆ 0ptoelectronicsProgress ~20144中国激光》杂志社 碳化硅反射镜表面粗糙度的优化 范汜 镝调 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室，吉林 长春 130033 摘要 空间光学技术 的迅猛发展对空间光学系统提 出了更高的要求 ；碳化硅材料以其优秀的物理性质 ，成为广泛应 用的反射镜材料 ；碳化硅反射镜 的光学加工研究也在国内外广泛开展 。简要讨论 了碳化硅反射镜的抛光机理 ；介绍 了碳化硅材料抛光的实验方法 ；定性分析 了碳化硅材料 的抛光过程 ；通过大量 的工艺实验和理论分析 ，讨论磨料粒 度 、抛光盘材料 、抛光盘压力 、抛光盘转速 、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅反射镜表面粗糙度的影响，并对各个参 数加 以优化 ，得到了优 良的实验结果 。 关键词 光学制造；碳化硅；抛光 ；表面粗糙度；优化