光栅型平面光波导波分复用器件分析.pdf

浙Ⅱ大学博士学位论支 摘要 波分复用系统中的关键元件之～是波分复用器，它对系统容量和系统传输质量 有决定性的影响。本论文对最具发展潜力的两种平面光波导波分复用器件——蚀刻 性能、简化器件制作工艺、降低器件制作成本。 从理论上分析了EDG器件的特性。1、从凹面光栅的成像分析出发，研究其各 级像差的解析表达式，给出了多点消像差的设计方法。2、利用时域有限差分法对光 栅的后向衍射效率进行了分析，比较了全内反射(TIR)光栅结构和普通光栅在后向 衍射效率上的差别，及其适用范围。3、分析了工艺误差对器件性能的影响。 研究了器件性能的改善方法。l、利用两点消像差的方法对EDG器件的结构设 计进行了改进，改善了多通道数EDG各通道的均匀性。2、用多光栅的方法实现了 EDG器件的频谱响应平坦化。3、设计了平场型EDG器件，简化了制作工艺。4、用 高掺杂的硼磷硅玻璃(BPSG)薄膜做波导的覆盖层，从而减小AWG器件的偏振敏 感性。 在硅基二氧化硅波导制作技术的基础上，进行了这两种集成型波分复用器件的 实验制作。在制作中采用等离子增强化学气相沉积(PEcvD)方法淀积氧化硅薄膜， lift．off方法制作金属掩膜，以及感应耦合等离子(IcP)刻蚀方法进行光波导刻蚀。 对芯片性能进行了检测，取得了初步实验结果。 ’ 为降低器件的制作成本，设计并制作了基于贮．Na+离子交换波导的器件。通过 有限差分方法分析离子交换过程，计算了这种波导结构的弯曲损耗，对其结构和工 艺参数进行了优化。 ． 总之，本文在理论和实验上研究了光栅型平面波导波分复用器件，提出了改善 其性能的方法并取得了初步的实验结果，这些结果对发展高性能、实用化的芯片有 重要意义。 关键词：蚀刻衍射光栅，阵列波导光栅，平面波导，光集成，像差，工艺误差，平 场型，频谱平坦化，偏振不敏感，离子交换波导 11I 甚}女大掌博士掌位论文 Abstract Asthe inaWDM haveacriticaleffect components key system，multi／demultiplexers the this onthe of system．In integrated performance dissertation，grating-basedplanar for WDM etched demultiplexersdensity waveguide high applications，including diffraction studiedindetail． gratings(EDGs)andarrayedwaveguidegratings(AWGs)，are The isto deviceswithbetter costandeasierfor purposedevelop performance，lower fabrication， The concave ofanEDGis of are performance analyzed．First，aberrati