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Classified Index: TG669
U.D.C: 621.9
Dissertation for the Doctoral Degree in Engineering
RESEARCH ON METAL SURFACE
ELECTROLYSIS AND PLASMA POLISHING AND
PROCESS
Candidate : Wang Ji
Supervisor : Prof. Fu Yili
Academic Degree Applied for : Doctor of Engineering
Speciality : Mechanical and Electronic
Engineering
Affiliation : School of Mechatronics Engineering
Date of Defence : June, 2013
Degree-Conferring-Institution : Harbin Institute of Technology
摘 要
摘 要
电解质等离子抛光是一种“绿色”高质高效的抛光金属工件的特种加工方法,
通过在工件和抛光液之间形成的气层的放电去除作用实现对工件抛光。其抛光液
为低浓度的盐溶液,并可通过补充抛光盐而循环使用,能够解决机械抛光难于加
工形状复杂工件的问题,也可以解决化学和电解抛光难以避免的污染问题,应用
前景广阔。
本文研究该抛光方法能够实现微观整平的原因,揭示电解质等离子抛光作用
机制。基于气体放电的相关理论,研究抛光液成分对抛光效果的影响,发现电解
质等离子抛光是一个气体放电和化学反应同时进行的动态过程,放电去除速度大
于反应生成速度是实现抛光的前提。通过实验和分析得出以不同的方式将工件潜
入抛光液时的伏安特性曲线和电流、电压随时间变化的曲线,确定最合理的工件
下潜方式。利用相关仪器研究了电解质等离子抛光前后不锈钢试件的外形尺寸、
粗糙度、耐腐蚀性、微观形貌、表面化学成分和显微硬度等表面状态的变化。实
验结果一方面证明了电解质等离子抛光可以达到理想的抛光效果,另一方面也在
一定程度上验证了所揭示的抛光作用机制。
分析电解质等离子抛光材料去除的热传导过程和工件表面获得能量的方式,
发现工件表面的热流密度是影响去除速度的重要因素,工件表面所获得的能量主
要来自电子冲击。根据材料去除机理,推导得出结论并实验证实:在稳定抛光状
态下,材料去除速度与电流密度成正比。依据实验结果和分析,研究了电压、抛
光液浓度和温度以及工件在抛光液中的下潜深度对材料去除速度的影响。建立表
面粗糙度随抛光时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间
后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根
据拟合结果对数学模型进行修正,修成后的数学模型与实验数据的拟合程度很好。
在不同的抛光液温度下,又进行两组实验,验证了修正后的数模模型与实际抛光
情况基本一致。
基于抛光作用机制和表面粗糙度随抛光时间变化的数学模型,选取经过一定
时间的抛光后的试件表面粗糙度值和抛光过程中的电流密度作为实验指标,进行
四因素四水平的正交实验,对实验结果进行极差和方差分析,确定各因素影响粗
糙度和电流密度的主次顺序和规律,获得只考虑抛光效果和综合考虑效果、成本、
效率以及稳定性的最优的工艺参数组合。电解质等离子抛光过程中受抛光产生的
金属微粒的干扰无法使用电导法对抛光液浓度进行检测,为了解决这一问题,基
- I -
哈尔滨工业大学工学博士学位论文
于实验提出两种确定抛光过程中硫酸铵抛光液浓度的方法。一种方法是利用硫酸
铵抛光液的浓度低于2.5wt% 以后抛光的电流密度会明显下降的现象,定时检测抛
光过程中电流值和抛光液温度,以确定
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