第7章超精密研磨与抛光.ppt

研磨磨料 研磨磨料 第三节 超精密平面研磨抛光 大规模集成电路的硅片，不仅要求极高的平面度，极小的表面粗糙度，还要求表面无变质层、无划伤。 其他：光学平晶、量块、石英振动子基片等。 一般在精密平面研磨 机上进行研磨 研具：通过研磨使研具的平面状态复印到工件上。 常用研具：特殊玻璃、金属板上涂一层四氟乙烯和镀铅和铟、锡盘、沥青盘。 获得高质量平面研磨抛光的工艺规律 研磨运动轨迹应均匀分布且不重叠—由研磨机的行星运动保证。 研磨盘要求材质均匀，并有微细孔容纳微粉磨料，修形后可获得平面度很高的研磨表面。 软质（半软质）研磨盘：容易获得粗糙度极小和变质层小的表面，但平面度不高。 获得高质量平面研磨抛光的工艺规律 使用金刚石超硬磨料研磨和抛光效率更高。 研磨平面度要求很高的零件时，可使用浮动研磨盘，以消除误差。 为提高效率，可在研磨剂中加化学活性物质。 避免粗磨料、空气中灰尘等混入，否则将使研磨表面划伤，达不到高质量研磨要求。 a. 传统研磨抛光：完全依靠微细磨料的机械作用去除被研磨材质 b. 研磨抛光新工艺：其原理不完全是机械式去除，如机械作用+化学作用等 第四节 超精密研磨和抛光新工艺 液中研磨、抛光 将研磨、抛光操作浸入在含磨料的研磨剂中，借助于水波效果，利用浮游的细磨料颗粒进行研磨加工。 2. 机械化学研磨、抛光 在腐蚀液中加有磨料，对工件边腐蚀边加工。 利用磨料本身或研磨剂与工件之间的化学作用，对工件进行研磨抛光。 在腐蚀液中研磨，是为了利用腐蚀液的腐蚀作用，提高效率。 工件与研磨液或磨料进行化学反应，可促进研磨的进行。 机理：机械+化学作用，称为“增压活化”。 抛光工具 活性 抛光液 机械化学抛光 小间隙 工件 工具运动方向 加压 工作原理 抛光工具上开有锯齿槽，靠楔形挤压和抛光液的反弹，增加微切削作用。 机理：微切削作用。 抛光工具 液体动力抛光 小间隙 工件 工具运动方向 抛光液 磨粒 液体动力抛光 工件 小间隙 加压 抛光轮 悬浮液 微粉(磨粒) 图 弹性发射加工原理 抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成磨料的“弹性发射”进行加工。 工作原理 机理：微切削＋被加工材料的微塑性流动作用 弹性发射抛光 抛光轮： 由聚氨基甲酸（乙）酯制成，磨料直径 0.1～0.01μm 3. 利用磁场研磨 超精密抛光晶须增韧陶瓷表面 超精密抛光晶须增韧陶瓷表面 超精密抛光的陶瓷表面 超精密抛光Al2O3/TiC陶瓷表面 超精密抛光纯Al2O3陶瓷表面 投射电镜TEM照片 超精密抛光铸铁材料表面 超精密抛光的纤维增强材料表面 硬质合金微观结构 涂层硬质合金微观结构 梯度陶瓷抛光表面 自润滑刀具表面润滑膜 表面压痕 电火花加工表面 涂层照片 元素扩散 Ti-6Al-4V Carbide A Interface Ti W Ti-6Al-4V Carbide A Interface Ti W Co Coo (a) (b) 超精密抛光涂层界面 涂层刻划痕迹 研磨、抛光加工变质层 不管采用什么加工方法，材料加工部位均会产生变质层。 变质层的存在会对材料的物理、化学、机械、电、磁、光学等性能产生显著影响，影响工件的使用性能。 加工变质层包括：表面微裂纹、表面组织、表面结构、表面应力、表面应变、表面硬度、表面粗糙度、残余应力、表面成分。 第二节 精密研磨、抛光的主要工艺因素 研磨方法 (单面、双面、旋转、往复)； 研磨工具（研具）(材料、形状、表面状态。铸铁、软布、树脂、橡胶、塑料)； 磨粒（磨料） (种类、材质、粗细) 加工液 (研磨液) 压力、速度、时间 环境 双面研磨机 研磨加工设备 研磨（抛光）工具 研磨工具：磨损要小，容易修正精度。 研具工作面的形状精度会反映到工件上，必须减小因研具磨损和变形引起的精度下降。 抛光工具 * 本科生专业课程 超精密研磨与抛光 邓建新 山东大学机械工程学院 2010年10月 ? ? ? 精密和超精 密磨料加工 ? 固结磨料加工 ? 固结磨具 砂轮磨削 油石研磨 精密珩磨 涂覆磨具 砂带磨削 砂带研抛 游离磨料加工 精密研磨 ? 精密抛光 手工研磨 挤压研磨 第一节 研磨抛光机理