物理气相沉积DC和TiN系列超硬膜的研究.pdfVIP

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物理气相沉积DC和TiN系列超硬膜的研究.pdf

中南大学硕士掌位论文 摘要 摘要 本文首先对类金刚石膜和TN系列超硬膜两种多功能涂层的性能.制备及检 测手段进行了综合|生的描述。在此基础上,采用直流磁控溅射在多晶硅表面沉积 了类金刚石的c膜,通过改变沉积基体的温度,溅射功率,沉积气压等实验参 数,使得到的c膜呈现出不同的表面形貌;采用多弧离子镀,通过改变沉积的气 氛,不同靶材之侧的转换的方法,在不锈钢表面分别沉积了TiN/TiAlN/TiN. (xRD).扫描电镜(SEM),显微硬度测量仪以及拉伸试验对膜的组织、结陶、 一降毙进7ji’陛能险测分昕,得到以下结果: I 工艺参数对直流磁控溅射沉积DLc的表面形貌有明显影响。【1)基体温度越 高,DLC瞑的表面粗糙度越大,原因是温度的升高增加了C原子表面扩散的ii 力.表面扩散趋同于生成含高sp一键结构更接近热力学更加稳定的石墨结陶。石 墨结构越多,表面越粗糙;(2)溅射功率升高,表面租糙度降『氐,嗓因是当植八 离子的能量大于原子的剥离能时,使进入亚表面的C原子增多,表面扩散不易 进{亍.能量被耗散在内部相对大的体积内,同时增加了溅射消移的效果,表面光 渭,反之t如果}亘入的能量达不到一定数值,:净主要进行表面扩敞,瓶髓度增加: (31沉积气压升高,表面半R糙度增加,这与沉积气压升高增加了入射粒子的碰撞, 从而降低丁随子的\射能量有关。 面织构aTiN/TiAlN/TiN有最高的硬度,TiN/TiAlN i欠之,TiN/T烈C最低。这个 结果符合EBemporad等人提出的模型。对于硬膜软基体体系,表面超硬层对整 体的宏观力学性能(抗拉强度和延伸率)没有影响。 关键词:类金刚石膜,TiN系列超硬膜,表面形貌,性能检测 !查查兰竺主兰竺竺查 .一 一—————————j竺兰r- abstract and of The applicaclons pr。pertles.preparati。ns,characterizations weredescribed filmandT1N films carbon(DLC) Iike Superhard dlam。nd on diamo— Based differentsurface atttrst. this, morphol。gy。f bHenv was controthe nlm wafer carbon depositedo兀Si by Llingtempera一 ndllke ambLent inDC sLlbstrace, ssure, magne:ror of pre sputteringp。wer :ure l。n impiantati。n,TlN/Ti.、iN,ri、, usIng:nulti—arc sDuttering L、l、,‘n、Ti、C

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