用强流脉冲离子方法在玻璃表面制备ITO膜的工艺与特性.pdfVIP

Y39798l 摘 要 小史川性流脉冲离。f束(……I；)方法，室温时在玻璃表面成功制备 r锡掺杂氧化钢(11’0)糟膜。通过训入一维热力真空扩散模型对二次等离 了休的温度、密度、扩散速率等一F艺参数进行计算。并利用椭圆偏振测厚仪、 SI：M刚带的能谱仪、x射线衍身J仪、分光光度汁、叫探针法、原予力显微镜(^FM) 等手段年¨方法分别对薄膜『l{J厚度、化学组成、结构、可见光透过率、电性能及 坡填表lfIi肜貌等特征进行J，分析。 Y结粜表l蚰靶表嘣：次等离了体的密度约为10”atoms／em3、温度约为 I．4eV，仡玻璃表瓶瞬时沉积速率达2cm／s，足其它传统镀膜方法的几个 数鼹级倍，并几．瞬问祚：玻填表lf『『产生约2200℃的高温。 通过对薄膜性能特祉的倒f究发现，经一次脉冲发射可制得65nm厚的 薄膜，薄膜保持r‘j靶材前i近的化学组成，薄膜朱退火前已经完成一定 的^^化，形成立 矿型结构，薄膜表而、l，挫度较好，并且薄膜具有 良好的光l【l、性 锰＼ 琴 父键词： 1110薄膜姒流脉冲离了束 坡璃表面 原子力显微镜 ，、 ABSTRACT indium havebeen on Tin．dopedoxide(ITO)filmssuccessfullyprepared room substratesat high temperatureby intensity(105 glass W／cm2)pulsed(70 ns)ion dimensional expansion beam(HIPIB)method．Onehydrodynamic modewasintroducedtoevaluatethe workingparameters andmethodssuchas measurements，SEM polarization appendedEDX， elliptical force method，atomic probe X—raydiffractometer，spectrophotometer，four so to onwere thecharacteristicsof[TO employedstudy microscopy(AFM、and films prepared Itwasobtainedthatthe of onthe surfacewasabout plasma density target 102”at