磁控溅射法制备催化TiOlt;,2gt;薄膜的研究.pdfVIP

摘要 (随着世界范围内环境f．1题的日益严重，利用Ti02光催化剂进行环境净化 已经引起了广泛的重视。当前的应用主要集中在水和空气的净化和处理。然 而，传统粉末光催化剂在应用中存在许多缺点，如反应过程中必须搅拌，反 应后催化剂难于分离和回收等。Ti02薄膜光催化剂可以克服这些缺点并拓展 其工业用途，如用作抗菌陶瓷釉面砖、自洁净玻璃等。目前用作催化剂的TiO： 薄膜大多数采用溶胶一凝胶法制备，虽然这种成膜方法比较成熟，而且可以应 用在生产中，但是又有一定的缺点，主要是所制备薄膜厚度不均匀，影响薄膜光 学质量r一 为了解决以往溶胶一凝胶法制备的Ti02薄膜膜层质量不好的缺点，本论 文对磁控溅射法在玻璃表面制备Ti02薄膜作为生态自洁净玻璃材料进行了一 系列探索与应用基础研究，包括Ti02薄膜的磁控溅射法制备工艺、表面微观 结构的控制、表面微观结构对Ti02薄膜光催化性能、透光性影响等。用扫描 Ti02薄膜的晶型和晶粒尺寸，用x射线光电子能谱(XPS)研究了薄膜中元 素的价态和组成，用紫外一可见光谱(UV．VIS)表征了Ti02镀膜玻璃的透光 率和吸收阈值，Ti02镀膜玻璃的光催化活性通过采用紫外灯作为光源，光催 化降解水溶液中的甲基橙进行表征。f结果发现： 在氧气、氩气分压比不变的条件下，薄膜表面O和Ti原子比增大，这可 能是由于溅射气压增大，而氧气与氩气比未变，真空室中氧气的绝对含量增 加，参加反应的氧原子数增加的缘故造成的。随着溅射气压的增大，表面变 得越来越粗糙，随着溅射气压的增加，薄膜降解甲基橙性能增强。当溅射气 压较高时，Ti02薄膜结构疏松，表面粗糙，比表面积增大。多孔结构使薄膜 的光电化学反应面积增大，吸附水能力增强。紫外光照射下产生的电子．空穴 对迁移到薄膜表面后，有足够的水分子及时地与空穴发生反应，不但减少了 电子一空穴的复合机率，而且产生大量的强活性羟基，使薄膜的光催化性增强。 在紫外区，薄膜的吸光度急剧增大，而且，随着热处理温度的增加，吸 收阈值发生轻微的“红移”。这种降低是由于薄膜物质的吸收所致。热处理温 度在室温～550℃范围内，随着热处理温度的增加，薄膜结晶度增大，薄膜 降解甲基橙的性能增强。 磁控溅射制备Ti02中其它制备条件也对薄膜性能产生很大影响。薄膜沉 积过程中，基片温度升高，晶粒生长，薄膜晶粒尺寸增大。但由于考虑设备 寿命等因素，薄膜沉积时间短，膜层比较薄，光催化性能很差。随着溅射功 率的增大，溅射速率增大。但在300W以下，溅射功率增大，溅射速率增加 较慢；当功率大于300W后，溅射速率增大变快，即存在一“阈值”。氧气分 压的增大，维持同样溅射电流强度的靶阴极电压增大，薄膜的沉积速率逐渐 减小户厂一 ／／ j j 7 关键词：磁控溅射V制客g袅征yTiO：薄麟7工艺参数了光催化活性、／ Abstract Sincetheenvironmentinthewholeworld Ti02 deteriorates，usingphotocatalysts to environmentiS iSfocusedonthe pufffy emphasized．Currentapplication andthetreatmentof waterand exist defectsin purification air．However,theremany theuseofconventional as the powderphotocatalysts，such stirringduringprocess， afterthereactionandSO film Canbeusedto segregatin