现代印制电路原理与工艺图形转移要点.pptVIP

LOGO 图形转移 2．辅助成份 （1）填料 常用的填料有滑石粉、碳酸钙粉、钡白粉（硫酸钡粉）、磷酸钙粉和钛白粉等。 （2）颜料 字符、文字多用白色和黑色；抗蚀油墨多用绿色或兰色. （3）粘附增强剂 LOGO 图形转移 5．4干膜抗蚀剂 5.4.1 概述 1．抗蚀干膜的结构 抗蚀干膜由聚酯片基、光敏抗蚀胶膜和聚乙烯保护膜三层构成。 片基是光敏抗蚀剂胶膜的载体，使抗蚀干膜保持良好的尺寸稳定性，还可保护抗蚀膜不被磨损； 光敏抗蚀剂胶膜由具有光敏性抗蚀树脂组成； 聚丙烯或聚乙烯薄膜是覆盖在抗蚀胶层另一面的保护层。 LOGO 图形转移 2．抗蚀干膜的种类 根据制造的原料、显影及去膜方式的不同，可分为溶剂型、水溶型和干显影（或剥离）型三大类。 3．光敏抗蚀干膜的组成 抗蚀干膜中的光敏抗蚀胶层一般是由感光性齐聚物（或共聚物）、粘合剂、光引发剂、增塑剂、稳定剂、着色剂及溶剂等成分组成。 LOGO 图形转移 5.4.2 抗蚀干膜的基本性能 1．厚度 过厚会引起分辨率下降；厚度不均产生图形失真。 2.光学特性 聚酯基片的厚度、光敏抗蚀层厚度； 光敏齐聚物的平均分子量、光谱特性范围及稳定性等。 3．化学性质 4．贮存性能 LOGO 图形转移 5.5习 题 什么叫图形转移？ 什么叫正像？什么叫负像？ 光致抗蚀剂主要有哪些类型？ 重铬酸盐光敏抗蚀剂是光交联型还是光分解型？其光敏机理是怎样的？ 重氮醌类光致抗蚀剂为什么可以用碱水溶液显影？ 什么叫光增感？增感剂应具备什么条件？ 液体光敏抗蚀剂主要有哪些种类？ 什么叫丝印印料？ 什么叫干膜抗蚀剂？有和特点？ 抗蚀干膜有哪几部分构成？各起什么作用？ LOGO LOGO 第5章 图形转移 现代印制电路原理和工艺 LOGO 图形转移 5.1光致抗蚀剂的分类与作用机理 1 5.2丝网制版用液体光敏抗蚀剂 2 5.3丝印印料光敏抗蚀剂 3 5．4干膜抗蚀剂 4 LOGO 图形转移 印制电路制作过程中，很重要的一道工序就是用具有一定抗蚀性能的感光树脂涂覆到覆铜板上，然后用光化学反应或“印刷”的方法，把电路底图或照像底版上的电路图形“转印”在覆铜箔板上，这个工艺过程就是“印制电路的图形转移工艺”简称“图形转移”。 图形转移后所得到的电路图形分为“正像”和“负像”。 LOGO 图形转移 用抗蚀剂借助于“光化学法”或“丝网漏印法”把电路图形转移到覆铜箔板上，再用蚀刻的方法去掉没有抗蚀剂保护的铜箔，剩下的就是所需的电路图形，这种电路图形与所需要的电路图形完全一致，称为正像。这种图形转移称为“正像图形转移”。 用“丝网漏印法”把抗蚀剂印在覆铜箔板上，没有抗蚀剂保护的铜箔部分是所需的电路图形，抗蚀剂所形成的图形便是“负像”。这种工艺称为“负像图形转移”。 LOGO 图形转移 5.1.1 概述 感光性树脂在吸收光量子后，引发化学反应，使高分子内部或高分子之间的化学结构发生变化，从而导致感光性高分子的物性发生变化。 光致抗蚀剂（光刻胶） 光固化染料（光固化抗蚀油墨） 光固化阻焊油墨 光固化耐电镀油墨 干膜抗蚀剂（抗蚀干膜） 光固化表面涂敷保护剂 5.1光致抗蚀剂的分类与作用机理 LOGO 图形转移 从加工工艺的角度来分，它们可以分为正性胶和负性胶两类； 以光化学反应机理来分，它们又可分为光交联型、光分解型和光聚合型三大类； 从外部形态，它们还可以分为液体光致抗蚀剂和干膜抗蚀剂两种。 液体光致抗蚀剂能制作出分辨率很高的电路图形。而干膜抗蚀剂却具有操作工艺简便，能适用于电镀厚层的要求。 LOGO 图形转移 5.1.2光交联型光敏树脂 光交联型光敏抗蚀剂在光化学反应中，两个或两个以上的感光性高分子能够互相连接起来。 它们的组成有两种形式： 1. 感光性化合物和高分子化合物的混合物； 2. 带有感光性基团的高分子。 LOGO 图形转移 1.重铬酸盐光敏抗蚀剂 （1）组成　　 一部分是光敏剂。为可溶性重铬酸盐类的一种，如它的钠、钾和铵盐。其中尤以铵盐的感光度和水溶性最好。 另一部分是高分子化合物。有水溶性动、植物胶和合成胶三种，其中动、植物胶易受潮、发霉变质。而聚乙烯醇则没有这些缺点，现在工业上大多使用它作为重铬酸光敏抗蚀剂的胶体。 LOGO 图形转移 （2）光化学固化机理 一般认为它们的光化学反应大致可分为两步： 1. 在光的作用下，六价铬离子与胶体发生氧化还原反应，被还原为三价铬离子，胶体氧化。 2. 三价铬离子具有很强的络合作用，它与胶体中具有独对电子的羧基（COO