光诱导液相沉积 NiCu 应用于晶硅电池栅线的制备.pdfVIP

宁婕妤 等：光诱导液相沉积 Ni／Cu应用于晶硅 电池栅线的制备 文章编号 ：1001—9731(2014)O1—01147～06 光诱导液相沉积 Ni／Cu应用于晶硅 电池栅线的制备 宁婕好 ，刘邦武 ，夏 洋，李超波 (中国科学院微电子研究所 ，微电子器件与集成技术重点实验室，北京 100029) 摘 要 ： 采用光诱导液相沉积 (LIP)的方法制备 了 2 实 验 Ni、Cu薄膜 ，并进一步讨论了沉积温度等相关因素对 薄膜成分与形貌的影响。采用 X射线衍射仪 (XRD) 2．1 实验材料 和扫描 电子显微镜 (SEM)、四探针测试仪等分别对薄 实验所采用 的化学药 品有六水合硫酸镍 (NiSO 膜的成分、形貌、电阻率、非均匀性等进行表征 。结果 · 6HzO)、次亚磷酸钠 (NaH PO ·2H O)、柠檬酸钠 显示，制备的 Cu膜 电阻率为 1．87×l0 Q ·m，非均 (Na3C6H5O7·2H2O)、冰 乙酸 (CH3COOH)、氯化钯 匀性为 2．64 。此外，将制备的 Ni／Cu工艺应用 于制 (PdC1。)、氯 化 亚 锡 (SnC1 ·H2O)、乙 酸 钠 备 晶硅 电池的栅线 电极 ，用 I—V 测试仪测试 电池参数 ， (CH。COONa)、硫酸铜 (CuSO )、硫酸 (H SO )、明 填充 因子 高达 77．8 。 胶、聚丙稀铣胺 (TEBA)等。 关键词 ： 镍膜 ；铜膜 ；光诱导 电沉积 ；表征 ；制备 2．2 光诱导液相沉积 Ni／Cu薄膜 中图分类号： 064 文献标识码 ：A 2．2．1 液相沉积 Ni的基本原理 DOI：10．3969／j．issn．1001—9731．2014．01．033 液相沉积 Ni膜基本原理是 l4在强还原剂次亚磷 酸钠的作用下，镍盐溶液 中的镍离子被还原成镍原子， 1 引 言 并沉积在基底表面形成金属镍层 ，同时次亚磷酸钠分 太阳能电池作为一种清洁高效 的绿色可持续能 解析出磷，因而在具有催化表面的镀件上 ，获得 Ni—P 源 ，引起人们的广泛关注 。当前，如何获得低成本、高 的合金层 。反应主要涉及两个过程，首先，H。POe脱 效率的太 阳能 电池成为新能源发展的主要 目标 。为了 去氢形成 HP()；一，同时释放初生态原子氢 ；然后，镍离 获得高效率的太阳能电池，需要减小前 电极表面引起 子被还原形成镍原子 ，沉积在金属表面。反应主要方 的能量损失 ，如入射光在金属电极表面反射引起 的光 程式如下 ： 学损失 ，由串联 电阻、金属和半导体的接触电阻、发射 H PO +H2O— HP()；+H一+2JH } (1) 极 的方块电阻等引起 的电学损失 ，因此 ，需要探索较 Ni +2[HI— Ni+2H一 (2) 为理想 的电池栅线高宽比，同时又要使遮光损失最小 。 Ni + H2POe+ H2O—— HPO + 3H + Ni 目前 ，工业上制备太 阳能电池栅线的方法主要是 (总反应方程式) (3) 丝网印刷，该方法操作工艺简单 ，成本利用率高。但这 反应过程中，还伴随如下次要反应 5【]： 种方法也有一些缺点，如制备的栅线具有较低的高宽 H：POT+[H]一 H O+OH一+P (4) 比，且遮光面积较大 ，影响光的吸收 ]。光诱导液相沉 H2PO2+H2O—一 H +HPOi一+H2 (5) 积技术 (LIP) 是一种新的材料沉积技术 ，利用这种方