纳米GaSb-SiO2镶嵌复合薄膜的制备及光学性质.pdfVIP

（ 辑） $ 第 卷 第 期 （ ） 年 月 0+0+ 10+$ !!$ 纳米 镶嵌复合薄膜的 制备及光学性质 刘发民 张立德 贾俊辉 姜 治 （中国科学院固体物理研究所，合肥 ） 摘要 用射频磁控溅射技术制备出纳米 颗粒镶嵌在 介质中的复合薄 膜 透射电子显微镜观察表明，纳米 颗粒均匀地镶嵌在 介质中 射线 衍射显示出 （ ）， （ ）和 （ ）典型的面心立方闪锌矿结构特 征复合薄膜的室温光吸收谱表明，吸收边发生了较大的蓝移，并且，蓝移量随纳米 的颗粒尺寸减小而增大 复合薄膜的室温 光谱表明：薄膜的 散 射峰较块体材料的有较大的红移和宽化用量子限域理论和张应力效应对这些现象 作了解释 关键词 纳米 颗粒 镶嵌复合薄膜 射频磁控共溅 光学性质 量子限域理论 锑化镓（ ）是最重要的 族半导体之一 在制备 激光器和探测器方面 ， 作为衬底已引起人们特别的兴趣 块体材料 ，已在许多光电子器件中得到广泛的应用 ［， ］ ［］ 目前，主要采用分子束外延技术 （ ） 生长 半导体薄膜，用 和 ［］