光电成像——非均匀性.pptVIP

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光电成像——非均匀性.ppt

第5讲 红外焦平面阵列的非均匀性及盲元 ? 5.1 红外探测器与红外焦平面阵列 ? 5.2 IRFPA的非均匀性 ? 5.3 非均匀性产生机理 ? 5.4 IRFPA的盲元 ? 5.5 盲元产生机理 5.1 红外探测器与红外焦平面阵列 红外技术和红外系统的发展和应用,始终是与红外辐射探测器的发展密切联系在一起的。 红外探测器是红外系统中最关键的元件之一,它是一种把接收到的红外辐射能转变成相应电量的传感器。 红外探测器的分类 从1800年W · Herschel 发现红外线并制成涂黑灵敏温度计以来,基于红外辐射与物质相互作用的红外探测器发展至今,已研制出了品种繁多的结构新颖、性能各异的红外探测器。对于种类繁多的红外探测器,有着多种不同的分类方法。 热探测器:红外辐射与物质相互作用产生热效应而工作, 热探测器吸收红外辐射后,先引起温度升高。然后由于温度升高,伴随着发生某种物理性质的变化。测量这些物理性质的变化既可以确定被吸收的红外辐射的能量或者功率。 光子探测器:红外辐射与物质相互作用产生光电效应而工作。 光子探测器吸收光子后,本身发生电子状态的改变,从而引起几种电学现象,它们统称为光子效应。 常用的光子效应包括:外光电效应、内光电效应。 常见材质及波段 InSb 3~5um HgCdTe 2~30um(短波、中波、长波) PtSi 中波 长波 IRFPA(8~14um) GaAlAs/GaAs多量子阱阵列 SiGe异质结阵列 非致冷:热释电、热电堆、微测辐射热计 红外焦平面阵列 由于单元红外探测器的性能已达到或接近理论极限值,只有增加使用的探测器数目才能进一步提高系统的性能,于是上世纪70年代产生了凝视红外探测器概念。 所谓“凝视”是指:红外探测器响应景物(或目标)的时间与取出阵列中每个探测器响应信号所需的读出时间相比较长。 成像时,探测器相对于视场的景物是凝视不动的,因而无须光机扫描。 凝视红外探测器的结构特点是:将多路信号读出等电路与探测器阵列集成在一起,并置于光学系统的焦平面上成像,故称红外焦平面阵列器件(Infrared Focal Plane Arrays,简称IRFPA)。 红外焦平面阵列与其它红外探测器相比具有以下明显 优点: (1)将红外探测器阵列高密度地集成在同一芯片上,从而可以大幅度地提高系统的空间分辨率和灵敏度; (2)实现了光机扫描向电子扫描的转变,有效地减小了系统的体积、重量和功耗,提高了工作的可靠性; (3)系统的工作帧频可以很高(几百帧甚至千帧以上),减少了信息迟延,适应了高速和超高速制导导弹等武器系统图像信息获取的需求。 红外焦平面阵列的出现不但可以研制出高灵敏度、高分辨率、大视场的红外成像系统,而且能使成像系统的体积、重量和功耗都得以降低。这有效地促进了红外成像技术的推广和应用,如今其应用遍及了军事(例如预警、制导、夜视及跟踪等)、天文和空间技术、医学、工业、日常生活等等各个领域,并发挥着日趋重要的作用。 红外焦平面技术的难点就在于制造大规模、高均匀性、高性能的红外探测器阵列,虽然这一关键的制造技术在发达国家已有很大的突破,但在提高成品率、降低成本方面仍具有很大难度。有效的红外焦平面制造技术现仅有为数不多的几家专业公司所垄断。从80年代初以来,国内几家红外研究所在这方面也取得了一定的进展,但距离高性能和高均匀性还有一定的差距。 5.2 IRFPA响应非均匀性 IRFPA成像非均匀性(Nonuniformity)定义: 在一均匀辐射照射下红外焦平面阵列中各探测单元之间响应输出的不一致性,又称之为固定图案噪声(Fixed Pattern Noise, FPN)。 非均匀性对图像产生强烈的干扰。 在线阵型器件中表现为垂直扫描方向的条带, 在凝视阵列中的空间噪声将表现为固定的图案。 5.3 非均匀性产生机理分析 造成红外焦平面阵列成像非均匀性的因素是多方面的,起主要作用的是: IRFPA中各探测器响应率的非均匀性(包括光谱响应的非均匀性); 读出电路自身及读出电路与探测器耦合的非均匀性; 暗电流的非均匀性等。 1、器件自身非均匀性 器件自身非均匀性是红外焦平面阵列非均匀性的主体部分。这种非均匀性主要是由器件的材料和制造工艺水平所决定的。 因为所有的探测器和整个多路耦合传输电路被共同集成制造在单一的基片上,所以一旦红外焦平面器件制造完成后,这种非均匀性因素也就基本确定了。 1)探测像元响应率的非均匀性 根据Mooney的理论,均匀照度下,IRFPA中单个探测单元的响应输出可用电子数表示为 尽管目前的材料制造水平已经达到了相当高的水平,但制造器件的材料还是远未达到所要求的均匀度。 2)信号传输的非均匀性 入射光子转换为

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