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第三章半导体中载流子的统计分布精要.ppt
第三章习题 4. 本征激发区 (高温) n0 ?? ND, p0 ?? NA n型Si中电子浓度n与温度T的关系: 杂质离化区 过渡区 本征激发区 ni ND 0 ni T n n 型硅中电子浓度与温度关系 n 200 400 600 P型半导体的载流子浓度和费米能级 1. 低温弱电离区 4. 本征激发区 T↑,EF↑ 3. 过渡区 po NA,no ni2/NA 2. 饱和电离区 计算掺杂半导体的载流子浓度时,需首先考虑属于何种温区。 一般:T:300K左右,且掺杂浓度>>ni 属于饱和电离区 注意: N型:no ND—NA 或 no ND P型:po NA—ND 或 po NA 三、工作温区(强电离区)的确定 1.??已知工作温度 Tmin—Tmax 确定掺杂范围 ND min— ND max ?由Tmax确定 ND min ● 根据Tmax,由lnni ~1/T曲线查出 Tmax对应的ni; ● 根据ni的公式计算出Tmax所对应的ni; 要达到全电离,要求ED>>EF 由Tmin确定 ND max 在强电离区: 一般:D- 0.1,达到全电离。 室温时:NC 2.8×1019/cm3,△ED 0.044ev ND max 3×1017/cm3 ND min 10ni 500K 查表得:T 500K时,ni 5×1014/cm3 ND min 5×1015/cm3 例:计算工作温度在室温到 500K 的掺 P 的 Si 半导体的施主浓度范围。 工作温区 强电离区 Tmin 300K,Tmax 500K ●本征载流子浓度随温度变化很大 在室温附近: Si: T ↑, 8K ni↑ 一倍 Ge: T ↑, 12K ni↑ 一倍 ●本征半导体的电导率不能控制 电子占据 ED 的几率: 空穴占据 EA 的几率: §3.6 非简并杂质半导体的载流子浓度 一、杂质能级上的电子和空穴浓度 若施主浓度和受主浓度分别为 ND、NA, 则施主能级上的电子浓度 nD 为: — 未电离的施主浓度 电离的施主浓度 nD+ 为: 受主能级上的空穴浓度 pA 为: 电离的受主浓度 pA-为: - 没有电离的受主浓度 ● EF-EA>>kT ● EA-EF>>kT pA→0,pA- →NA,受主几乎全电离 ● EF EA pA→NA,pA- →0,受主几乎都未电离 EF 高时,受主全电离;EF 低时,受主未电离; 施主相反,EF 高时,施主未电离;EF 低时,施主全电离。 EF →杂质的电离 →导带电子或价带空穴 内在联系 二、杂质半导体载流子浓度和费米能级 带电粒子有: 电子、空穴、电离的施主和电离的受主 电中性条件: no + pA- po + nD+ 1. 低温弱电离区 温度很低,kT<△ED<<Eg, 本征激发很小 对 n 型半导体 含有 ND、NA 两种杂质,但 ND>NA 因 ND >NA,价带空穴主要来源于本征激发, 而本征激发很小,所以po? 0 可忽略。 电中性条件可简化为: no + pA- nD+ 施主部分电离,EF 在ED 附近, EF>>EA,受主全电离, pA- NA ∵ nD+ ND-nD ∴no nD+ - pA- =ND-nD-NA 将 nD 代入,并移项后,得: 令 两边同乘: no<<NC,kT ln(no/NC)<0 ? EF<EC 费米能级 NA 0 ●no,EF ∵温度很低, 很小 ● n0 ~ T 的关系 对 no 的表达式取对数: lnno≈ 常数 -△ED/ 2kT 1/T lnn0T-3/4 -△ED/ 2k ● EF ~ T 的关系 T→0K时,NC→0, 但: 费米能级位于导带底 和施主能级的中线处 说明 EF 上升很快 T↑,NC↑,dEF/dT↓,说明 EF 随 T 的升高而增大的速度变小了。 但: 当T↑↑,达到 Tmax时: EF 达到最大值: 当T >Tmax 后, 当T T1 时: 当ND↑时,EF ~ T的变化规律不变, 但Tmax↑,EFmax ↑ 中间电离区 T E EC ED EF NC 0.11 ND 低温弱电离区 EF 与 T 的关系 2. 饱和电离区 —杂质全部电离,本征激发仍很小 同时含有ND和NA,且ND>NA 电中性条件为: ∵ EF 本征≈Ei, ∴ 又∵ ni <<ND-NA, ∴EF>Ei T↑,ni↑,EF↓ ND ni ND↑,EF↑ NA 0 ∴EF>Ei T↑,ni↑,EF↓ 饱和区:载流子浓度 n0 保持 等于杂质浓度的这一温度范 围叫?。 3. 过渡区 (半导体处于饱和区和完全本征激发之间) 同时含有ND、NA,且ND>NA
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