- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
调制激光致硅晶圆载流子辐射扫描成像试验研究刘俊岩-物理学报
调制激光致硅晶圆载流子辐射扫描成像试验研究
刘俊岩 宋鹏 秦雷 王飞 王扬
Experimentalstudyonscanimagingofsiliconwaferbylaser-induced photocarrier radiometry
LiuJun-Yan SongPeng QinLei WangFei WangYang
引用信息Citation: ActaPhysicaSinica, ,087804(2015) DOI: 10.7498/aps.64.087804
在线阅读Viewonline: /10.7498/aps.64.087804
当期内容Viewtableofcontents: /CN/Y2015/V64/I8
您可能感兴趣的其他文章
Articlesyoumaybeinterestedin
高性能透射式GaAs光电阴极量子效率拟合与结构研究
Researchonquantumefficientfittingandstructureofhighperformancetransmission-modeGaAsphoto-
cathode
物理学报.2011,60(10): 107802 /10.7498/aps.60.107802
一种测量p-GaN载流子浓度的方法
Anewmethodtomeasurethecarrierconcentrationofp-GaN
物理学报.2011,60(3): 037804 /10.7498/aps.60.037804
物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 64, No. 8 (2015) 087804
调制激光致硅晶圆载流子辐射扫描成像试验研究
刘俊岩 宋鹏 秦雷 王飞 王扬
(哈尔滨工业大学机电工程学院, 哈尔滨 150001)
( 2014 年10 月29 日收到; 2014 年12 月4 日收到修改稿)
建立了调制激光诱发硅晶圆少数载流子密度波一维模型, 仿真分析了少数载流子输运参数对调制激光诱
发载流子辐射信号频域响应的影响. 利用调制激光诱发载流子辐射扫描成像系统对含有表面划痕的硅晶圆进
行了扫描成像试验研究. 通过少数载流子密度波模型与多参数拟合方法反求得到了扫描区域的输运参数二维
分布图. 该方法得到的少数载流子寿命与利用传统光电导方法测量的少数载流子寿命结果相符; 分析了划痕
对载流子输运参数造成的影响, 与光电导方法比较, 该方法可以测量不同位置的全部载流子输运参数且分辨
率高.
关键词: 调制激光诱发载流子辐射, 硅晶圆, 输运参数, 扫描成像
PACS: 78.56.Cd, 78.40.Fy, 07.68.+m DOI: 10.7498/aps.64.087804
9
晶圆的缺陷和污染进行扫描成像; Liu 等 研究了
1 引 言 热退火对硅晶圆PCR 信号的影响; Sun 等10 利用
InGaAs 相机对硅片进行成像研究; Ren 等11 结合
硅晶圆是制作芯片和硅基太阳能电池片的主 扫频和准时域PCR 技术对不同掺杂浓度的硅晶圆
要原料, 随着科技发展, 硅晶圆的需求日益增多. 进行了研究. 利用PCR 技术可以得到硅晶圆的输
硅晶圆少数载流子输运参数(载流子寿命 、扩散系 运参数, 因此输运参数的分布以及划痕对输运参数
数 、前表面复合速率 和后表面复合速率 ) 决 的影响需要进行深入研究, 为后续工艺制造、避免
f r
定硅晶圆的质量进而影响后续元器件的性能, 因此 划痕提供一定指导.
对硅晶圆载流子输运参数检测显得尤为重要.
文档评论(0)